[发明专利]半导体存储装置有效

专利信息
申请号: 201910085556.8 申请日: 2019-01-29
公开(公告)号: CN110911498B 公开(公告)日: 2023-09-26
发明(设计)人: 山下博幸;森伸二;泽敬一;松尾和展;松田和久;斋藤雄太;高桥笃史;田中正幸 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L29/792 分类号: H01L29/792;H10B43/27;H10B43/35
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 夏斌
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实施方式提供一种可靠性提高了的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:半导体层;栅极电极;第1绝缘层,设置于半导体层与栅极电极之间;第2绝缘层,设置于第1绝缘层与栅极电极之间;区域,设置于第1绝缘层与第2绝缘层之间,且包含金属或半导体;以及覆盖层,包围区域,且包含硅以及氮。
搜索关键词: 半导体 存储 装置
【主权项】:
暂无信息
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