[发明专利]有机薄膜及其制作方法、显示装置和光学器件有效
| 申请号： | 201910058660.8 | 申请日： | 2019-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN109786552B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 顾勋;梅文娟;刘丹;李保朝;张昌俊 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/40 | 分类号： | H01L51/40;H01L51/05;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 230012 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种有机薄膜及其制作方法、显示装置和光学器件，其中，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成异构发生层，所述异构发生层包括第一区域和第二区域；在所述异构发生层背离所述衬底基板的一面上添加前驱体溶液，并使得所述第二区域的表面能大于所述第一区域的表面能，以利用所述前驱体溶液形成有机薄膜，所述前驱体溶液至少部分位于所述第二区域内。本发明提供的有机薄膜及其制作方法、显示装置和光学器件，能够提高有机薄膜的生产良率。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 薄膜 及其 制作方法 显示装置 光学 器件 | ||
【主权项】：
1.一种有机薄膜的制作方法，其特征在于，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成异构发生层，所述异构发生层包括第一区域和第二区域；在所述异构发生层背离所述衬底基板的一面上添加前驱体溶液，并使得所述第二区域的表面能大于所述第一区域的表面能，以利用所述前驱体溶液形成有机薄膜，所述前驱体溶液至少部分位于所述第二区域内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910058660.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
