[发明专利]苯并吡喃化合物、含有该化合物的固化性组合物、及含有由该固化性组合物形成的固化物的光学物品在审
| 申请号： | 201880045275.3 | 申请日： | 2018-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN110869355A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | 宫崎真行;竹中润治 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | C07D311/96 | 分类号： | C07D311/96;C07D497/10;C08G65/32;C08K5/1545;C08L101/00;C09K9/02;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种基质依存性得到降低的苯并吡喃化合物，其具有包含与13位的碳原子一起形成螺环的基团的茚并萘并吡喃部位至少1个以上，进而该茚并萘并吡喃部位具有包含3个以上重复单元的选自聚氧化亚烷基低聚物链基和聚酯低聚物链基中的低聚物链基，优选为下述式(1)表示的分子内具有至少1个前述低聚物链基的苯并吡喃化合物，此处，R |
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| 搜索关键词： | 化合物 含有 固化 组合 形成 光学 物品 | ||
【主权项】：
暂无信息
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