[发明专利]气液反应装置、反应管及成膜装置有效
| 申请号： | 201880032707.7 | 申请日： | 2018-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110637104B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 纐缬明伯;村上尚;山口晃;椎名一成;岛村隼斗 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东京农工大学;大阳日酸株式会社;大阳日酸CSE株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;C01B21/06;C01G15/00;C23C16/34;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 林蕾;武晨燕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种气液反应装置，包括：气液反应室，在内部空间的下部收纳熔融金属，使供给到内部空间的长度方向的一端侧的上部的包含载气和原料气体的混合气体A在长度方向上流动，所述载气为N |
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| 搜索关键词： | 反应 装置 | ||
【主权项】：
1.一种气液反应装置，其特征在于，包括：/n气液反应室，在内部空间的下部收纳熔融金属，使供给到所述内部空间的长度方向的一端侧的上部的包含载气和原料气体的混合气体A在所述长度方向上流动，所述载气为氮气及氩气中的至少一种，同时通过所述原料气体和所述熔融金属的气液反应使生成气体生成，并将包含所述生成气体和所述载气的混合气体B从所述长度方向的另一端侧的上部排出；以及/n突出部件，从与所述气液反应室的所述内部空间接触的顶面向所述内部空间内突出，所述长度方向的一端侧的突出角度为钝角，并且具有使气体在所述长度方向上通过的狭缝。/n
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
