[发明专利]使用光刻法和光致抗蚀剂制造制品的设备和方法在审
| 申请号： | 201880027797.0 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN110546578A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚·乔斯林·布宾多夫;安德鲁·大卫·贝斯特 | 申请（专利权）人： | 卡拉汉创新有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄霖;杨颖<国际申请>=PCT/NZ20 |
| 地址： | 新西兰*** | 国省代码： | 新西兰;NZ |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种配置成使用包括光致抗蚀剂材料的光致抗蚀剂来制造制品的设备，该设备包括：a.壳体，该壳体构造成接纳光致抗蚀剂并将光致抗蚀剂定位在壳体中的至少一个操作位置中；b.曝光系统，该曝光系统配置成发射辐射，该辐射入射到处于操作位置中时的光致抗蚀剂材料上，以引起光致抗蚀剂材料的暴露于辐射的区域的一个或更多个特性的改变；以及c.加热器，该加热器配置成在光致抗蚀剂处于该操作位置中或处于壳体中的不同操作位置中时加热光致抗蚀剂材料以将光致抗蚀剂材料固化至基底；其中，d.壳体是排除辐射的，使得外部辐射不能进入壳体至少达到下述程度：将外部辐射从壳体充分地排除以防止光致抗蚀剂材料的聚合或者使光致抗蚀剂材料的聚合最小化，并且此外，其中，壳体是洁净壳体，该洁净壳体构造成至少在光致抗蚀剂处于该操作位置或每个操作位置中时防止不希望的污染物进入壳体。该设备可以是用于生产单层或多层的制品的落地式或台式设备。 | ||
| 搜索关键词： | 壳体 光致抗蚀剂材料 操作位置 光致抗蚀剂 辐射 曝光系统 聚合 加热器 洁净 加热器配置 抗蚀剂材料 发射辐射 台式设备 制造制品 加热光 落地式 最小化 单层 多层 基底 入射 外部 固化 配置 污染物 接纳 暴露 生产 | ||
【主权项】：
1.一种配置成使用包括光致抗蚀剂材料的光致抗蚀剂来制造制品的设备，所述设备包括：/na.壳体，所述壳体构造成接纳所述光致抗蚀剂并将所述光致抗蚀剂定位在所述壳体中的至少一个操作位置中；/nb.曝光系统，所述曝光系统配置成发射辐射，所述辐射入射到处于所述操作位置中时的所述光致抗蚀剂材料上，以引起所述光致抗蚀剂材料的暴露于所述辐射的区域的一个或更多个特性的改变；以及/nc.加热器，所述加热器配置成在所述光致抗蚀剂处于所述操作位置中或处于所述壳体中的不同操作位置中时加热所述光致抗蚀剂材料以将所述光致抗蚀剂材料固化至基底；其中，/nd.所述壳体是排除辐射的，使得外部辐射不能进入所述壳体至少达到下述程度：将所述外部辐射从所述壳体充分地排除以防止所述光致抗蚀剂材料的聚合或者使所述光致抗蚀剂材料的聚合最小化，并且此外，其中，所述壳体是洁净壳体，所述洁净壳体构造成至少在所述光致抗蚀剂处于所述操作位置或每个操作位置中时防止不希望的污染物进入所述壳体。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡拉汉创新有限公司，未经卡拉汉创新有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880027797.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
