[发明专利]使用基于重复率的增益估算器的改进的激光能量和剂量控制有效
申请号: | 201880026865.1 | 申请日: | 2018-04-03 |
公开(公告)号: | CN110546579B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 赵颖博;K·M·奥布里恩 | 申请(专利权)人: | 西默有限公司 |
主分类号: | G03F7/23 | 分类号: | G03F7/23;H01S3/10;H01S3/13 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 吕世磊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 通过创建和使用增益估算器集合改善激光系统的激光能量控制和所得的剂量控制,增益估算器集合中的一个增益估算器用于激光脉冲重复率集合或范围中的每个激光脉冲重复率。当使用新的重复率时,其对应的增益估算器被检索,用于计算电压以使激光源发射,并且被更新。由此所得的生成的激光避免了现有激光系统中固有的会聚延迟,并且进一步可以以随后的指定的重复率重复这样做。 | ||
搜索关键词: | 使用 基于 重复 增益 估算 改进 激光 能量 剂量 控制 | ||
【主权项】:
1.一种激光能量控制的方法,包括:/n在激光系统控制器中接收第一激光触发命令和电压命令;/n由所述激光系统控制器将所述电压命令转换为第一能量目标;/n由所述激光系统控制器基于所述第一激光触发命令与先前的激光触发命令之间的差异,确定第一激光重复率;/n由所述激光系统控制器检索对应于所述第一激光重复率的第一重复率增益估算器;/n由所述激光系统控制器使用所述第一能量目标和所述第一重复率增益估算器确定第一激光电压;/n由所述激光系统控制器引导激光源使用所述第一激光电压发射;/n在所述激光系统控制器中接收后续的激光触发命令和后续的电压命令;/n由所述激光系统控制器将所述后续的电压命令转换为第二能量目标;/n由所述激光系统控制器基于所述后续的激光触发命令与所述第一激光触发命令之间的差异,确定第二激光重复率,其中所述第二激光重复率与所述第一激光重复率不同;/n由所述激光系统控制器检索对应于所述第二激光重复率的第二重复率增益估算器;/n由所述激光系统控制器使用所述第二能量目标和所述第二重复率增益估算器确定第二激光电压;以及/n由所述激光系统控制器引导所述激光源使用所述第二激光电压发射。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西默有限公司,未经西默有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880026865.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 使用基于重复率的增益估算器的改进的激光能量和剂量控制-201880026865.1
- 赵颖博;K·M·奥布里恩 - 西默有限公司
- 2018-04-03 - 2021-07-06 - G03F7/23
- 通过创建和使用增益估算器集合改善激光系统的激光能量控制和所得的剂量控制,增益估算器集合中的一个增益估算器用于激光脉冲重复率集合或范围中的每个激光脉冲重复率。当使用新的重复率时,其对应的增益估算器被检索,用于计算电压以使激光源发射,并且被更新。由此所得的生成的激光避免了现有激光系统中固有的会聚延迟,并且进一步可以以随后的指定的重复率重复这样做。
- 曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法-201680057223.9
- 下山隆司 - 株式会社尼康
- 2016-09-29 - 2021-06-15 - G03F7/23
- 液晶曝光装置,设有保持基板(P)之基板保持具(34),具备测量系统,该测量系统具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置,根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息,测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息,多个读头,在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺,将使用该移转之读头读头以控制基板保持具之移动之修正信息,根据至少三个读头之测量信息来取得。
- 曝光装置-201510244466.0
- 森田亮;松田政昭;绿川悟 - 株式会社ORC制作所
- 2015-05-14 - 2017-12-19 - G03F7/23
- 提供一种曝光装置,其是卷对卷方式的曝光装置,能够在长条工件上不产生划痕疵的情况下缩短生产节拍,并且所形成的图案的连接精度良好。所述曝光装置具有曝光台(31),其保持长条工件(W);台移动部(32),其使曝光台(31)往复移动;供给侧约束辊(15),其设置在供给卷轴(11)的下游侧且曝光单元(51)的上游侧,约束长条工件(W);以及卷绕侧约束辊(25),其设置在曝光单元(51)的下游侧且卷绕卷轴(21)的上游侧,约束长条工件(W),所述供给侧约束辊(15)和卷绕侧约束辊(25)中的至少一方具有辊驱动单元。
- 驱动装置及曝光装置-200510109154.5
- 蛯原明光 - 株式会社尼康
- 2005-10-18 - 2006-05-17 - G03F7/23
- 本发明提供一种可利用比较小型的机构降低驱动部的发热量,且降低驱动时的反作用力的驱动装置。沿Z轴导向装置55A移动自如地安装滑块53A及58A,并在滑块53A上固定遮蔽装置21及可动元件54A,且利用滑块58A支持固定元件60A,并在含有半径比不同的滑轮48A及49A的平衡轮机构51A上,分别通过钢带62A及63A连结滑块53A及固定元件60A。利用可动元件54A及固定元件60A所构成的线性电动机61A,将遮蔽装置21沿垂直线进行驱动。
- 用于生产印刷电路板的投影曝光装置和投影曝光方法-200510099146.7
- 中川涉;桥本一范 - 株式会社阿迪泰克工程
- 2005-09-02 - 2006-03-08 - G03F7/23
- 用于生产印刷电路板的投影曝光装置和投影曝光方法。用于生产印刷电路板的投影曝光装置及投影曝光方法,其中将包括要在印刷电路板(2)上曝光的块(10)和标片(12)的整个图案绘制在通过分割线(19)分割成6个区域的光掩模(1)上,通过使用遮蔽设备(3)遮蔽除曝光区域以外的其他区域,对安放在可移动的光掩模台(5)上的光掩模(1)的各个分割区域进行曝光。
- 专利分类