[发明专利]批量处理装载锁定腔室在审
申请号: | 201880026697.6 | 申请日: | 2018-03-06 |
公开(公告)号: | CN110546750A | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 欧内斯托·J·乌洛亚 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H05H1/46;H01L21/673;H01L21/677 |
代理公司: | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;赵静<国际申请>=PCT/US2 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本公开内容的实施方式大体涉及一种改进的批量处理装载锁定腔室、一种具有所述改进的批量处理装载锁定腔室的群集工具、以及一种使用所述改进的装载锁定腔室清洁设置在内的多个基板的方法。在一个实施方式中,一种装载锁定腔室包括:腔室主体;匣盒,所述匣盒设置在所述腔室主体中;远程等离子体源;多个入口喷嘴;以及多个出口端口。所述腔室主体具有形成在所述腔室主体中的多个基板传送狭槽。所述匣盒具有多个基板储存狭槽并被配置为在所述腔室主体内上下移动。所述多个入口喷嘴耦接到所述远程等离子体源并面对限定在所述腔室主体内的处理区域。所述多个出口端口跨所述处理区域面对所述多个入口喷嘴。 | ||
搜索关键词: | 腔室主体 锁定腔室 装载 多个基板 入口喷嘴 匣盒 远程等离子体源 出口端口 处理区域 狭槽 改进 群集工具 上下移动 传送 储存 清洁 配置 | ||
【主权项】:
1.一种装载锁定腔室,包括:/n腔室主体,所述腔室主体限定处理区域,所述腔室主体具有多个出口端口和穿过所述腔室主体形成的多个基板传送狭槽;/n可移动轴,所述可移动轴设置在所述处理区域中;/n匣盒,所述匣盒设置在所述可移动轴上,其中所述匣盒包括多个基板储存狭槽;/n升降致动器,所述升降致动器能操作地耦接到所述可移动轴以用于升高和降低所述匣盒;/n多个入口喷嘴,所述多个入口喷嘴穿过所述腔室主体设置并且面对所述多个出口端口;/n入口歧管,所述入口歧管设置在所述处理区域外,其中所述入口歧管将所述多个入口喷嘴流体地耦接到远程等离子体源;以及/n出口歧管,所述出口歧管设置在所述处理区域外,其中所述出口歧管流体地耦接到所述多个出口端口。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造