[发明专利]膜形成组合物有效

专利信息
申请号: 201880021994.1 申请日: 2018-04-03
公开(公告)号: CN110461969B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 能谷刚;久保雅彦;佐竹昇;野岛由雄;尾崎祐树;冈村聪也 申请(专利权)人: 默克专利有限公司
主分类号: C09D183/16 分类号: C09D183/16;C08K5/00;C08L83/16
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人: 刘卓然
地址: 德国达*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: [问题]本发明提供一种可在低温进行固化的膜形成组合物与使用了该膜形成组合物的二氧化硅质膜形成方法。[解决手段]一种膜形成组合物,其包含聚硅氮烷、有机溶剂、以及特定的添加剂;以及一种膜形成方法,其中,将该膜形成组合物涂布于基板,进行固化。该特定的添加剂从由(A)烃基取代的胍类、(B)包含氧以及氮作为构成成员的冠醚胺类、(C)具有氨基取代的多环结构的环烷基类、(D)烃基取代的肟类、以及(E)咪唑啉类组成的组中选出。
搜索关键词: 形成 组合
【主权项】:
1.一种膜形成组合物,其包含:/n聚硅氮烷、/n有机溶剂、以及/n至少1种添加剂,所述至少1种添加剂从由(A)烃基取代的胍类、(B)包含氧以及氮作为构成成员的冠醚胺类、(C)具有氨基取代的多环结构的环烷类、(D)烃基取代的肟类、以及(E)咪唑啉类组成的组中选出。/n
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