[发明专利]用于缺陷材料分类的系统及方法有效

专利信息
申请号: 201880011822.6 申请日: 2018-01-02
公开(公告)号: CN110301038B 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 国衡·赵;J-K·龙;M·基尔克 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/67
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明揭示一种检验系统,其包含:照明源,其产生照明光束;聚焦元件,其将所述照明光束引导到样品;检测器;集光元件,其经配置以将从所述样品发出的辐射引导到所述检测器;检测模式控制装置,其在两个或两个以上检测模式中成像所述样品使得所述检测器基于所述两个或两个以上检测模式产生两个或两个以上集光信号;及控制器。从所述样品发出的辐射至少包含由所述样品镜面反射的辐射及由所述样品散射的辐射。所述控制器基于所述两个或两个以上集光信号确定与由所述样品上的缺陷散射的辐射相关联的缺陷散射特性。所述控制器还根据经预先确定缺陷分类集基于所述一或多个缺陷散射特性对一或多个粒子分类。
搜索关键词: 用于 缺陷 材料 分类 系统 方法
【主权项】:
1.一种系统,其包括:照明源,其经配置以产生照明光束;一或多个聚焦元件,其经配置以将所述照明光束引导到样品;检测器;一或多个集光元件,其经配置以将从所述样品发出的辐射引导到所述检测器,其中从所述样品发出的所述辐射包含由所述样品镜面反射的辐射及由所述样品散射的辐射;检测模式控制装置,其配置以在两个或两个以上检测模式中成像所述样品使得所述检测器基于所述两个或两个以上检测模式产生两个或两个以上集光信号;及控制器,其通信地耦合到所述检测器,所述控制器包含经配置以执行经配置以引导一或多个处理器完成以下项的程序指令的所述一或多个处理器:基于所述两个或两个以上集光信号确定与由所述样品上的一或多个缺陷散射的辐射相关联的一或多个缺陷散射特性,其中所述一或多个缺陷散射特性包含散射相位、散射强度或缺陷吸收中的至少一者;及根据经预先确定缺陷分类集基于所述一或多个缺陷散射特性对所述一或多个缺陷分类。
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