[实用新型]双有源区型快速整流二极管有效

专利信息
申请号: 201822254256.1 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN209561416U 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 崔峰敏 申请(专利权)人: 傲迪特半导体(南京)有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/06
代理公司: 江苏致邦律师事务所 32230 代理人: 徐蓓;尹妍
地址: 210034 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型涉及双有源区型快速整流二极管,硅晶片尺寸为2.55mm×2.55mm,上设有两个相同大小的有源区,每个有源区中,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,低掺杂的N型硅衬底呈圆角长方体状,所述N型硅衬底上有2个环形结构,外环为高掺杂N型硅发射区,高掺杂P型硅基区和外环高掺杂N型硅发射区中间有一个高掺杂P型硅基环。本实用新型在小尺寸的硅晶片上设置两个有源区,两个有源区共用阴极,每个有源区各自形成一个PN结及两个环形结构,形成的二极管结构反向恢复时间短,开关特性好,适用于照明用交换式电源。
搜索关键词: 源区 高掺杂 衬底 快速整流二极管 本实用新型 环形结构 低掺杂 发射区 硅晶片 基区 二极管结构 交换式电源 圆角长方体 反向恢复 共用阴极 开关特性 照明用 基环
【主权项】:
1.一种双有源区型快速整流二极管,其特征在于,硅晶片尺寸为2.55mm×2.55mm,上设有两个相同大小的有源区,每个有源区中,低掺杂的N型硅衬底上设有高掺杂P型硅基区,形成PN结,低掺杂的N型硅衬底呈圆角长方体状,所述N型硅衬底上有2个环形结构,外环为高掺杂N型硅发射区,高掺杂P型硅基区和外环高掺杂N型硅发射区中间有一个高掺杂P型硅基环。
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