[实用新型]一种晶圆硅片减薄装置有效
申请号: | 201822185678.8 | 申请日: | 2018-12-25 |
公开(公告)号: | CN209282173U | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 陈琳 | 申请(专利权)人: | 苏州美法光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/304 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 刘计成 |
地址: | 215000 江苏省苏州市吴*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种晶圆硅片减薄装置,包括机体,所述机体的底部固定安装有防滑支撑腿,所述机体的边侧下端位置固定安装有冷却水箱,所述机体正面的下端位置固定安装有控制面板,所述机体正面上端的中间位置固定安装有观察窗,所述机体的上端开设有进料口,所述机体的上端外部活动安装有联动轴,所述二级分层挡板上端的中间位置固定安装有二级限位挡板,所述二级分层挡板的上端活动安装有二级减薄磨辊,所述二级分层挡板的内部开设有一级过板槽。该晶圆硅片减薄装置,以磨辊打磨方式代替酸洗法,通过在机体内分层设置磨辊对但硅晶片进行连续打磨,加快晶圆硅片的减薄速率,以此提高晶圆硅片整体的减薄效率。 | ||
搜索关键词: | 上端 挡板 晶圆硅片 分层 减薄 磨辊 硅片减薄装置 活动安装 机体正面 下端位置 种晶 打磨 本实用新型 分层设置 减薄装置 控制面板 冷却水箱 限位挡板 观察窗 硅晶片 进料口 联动轴 酸洗法 支撑腿 防滑 外部 | ||
【主权项】:
1.一种晶圆硅片减薄装置,包括机体(1),其特征在于:所述机体(1)的底部固定安装有防滑支撑腿(2),所述机体(1)的边侧下端位置固定安装有冷却水箱(3),所述机体(1)正面的下端位置固定安装有控制面板(4),所述机体(1)正面上端的中间位置固定安装有观察窗(5),所述机体(1)的上端开设有进料口(6),所述机体(1)的上端外部活动安装有联动轴(9),所述机体(1)的底部固定开设有下料口(12),所述机体(1)内部内壁固定安装有冷却流动水管(14),所述机体(1)内部的底部位置横向固定有一级分层挡板(15),所述冷却水箱(3)边侧的中间位置固定安装有循环水泵(7),所述冷却水箱(3)的上端开设有加水口(8),所述联动轴(9)的上端活动安装有一级齿轮箱(10),所述一级齿轮箱(10)的上端固定安装有驱动电机(11),所述下料口(12)的外部固定安装有下料阀(13),所述一级分层挡板(15)的上端活动安装有一级减薄磨辊(16),所述一级分层挡板(15)上端的中间位置纵向固定有一级限位挡板(18),所述一级分层挡板(15)的内部开设有二级过板槽(23),所述一级减薄磨辊(16)的上端活动安装有二级齿轮箱(17),所述二级齿轮箱(17)的上端固定安装有二级分层挡板(19),所述二级分层挡板(19)上端的中间位置固定安装有二级限位挡板(20),所述二级分层挡板(19)的上端活动安装有二级减薄磨辊(21),所述二级分层挡板(19)的内部开设有一级过板槽(22)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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