[实用新型]一种刻蚀装置

摘要

本实用新型提供了一种刻蚀装置，包括：机架、刻蚀槽、多个喷淋装置和输水装置。刻蚀槽设置在机架上并包括：贯穿刻蚀槽、并位于刻蚀槽内部的多个相互平行设置的滚轮，滚轮沿轴向间隔均匀地设有多个凹槽；多个喷淋装置固定在机架上，并且并列设置在刻蚀槽上方，刻蚀槽内具有多个硅片工位，每个硅片工位上对应一个喷淋装置，并且多个喷淋装置所成直线与滚轮平行，每个喷淋装置具有喷水的第一状态及未喷水的第二状态；输水装置为喷淋装置输送液体，并且输水装置单独控制一个喷淋装置处于第一状态或第二状态。本实用新型的技术方案不会产生浪费水的现象，并且各个硅片工位均能被喷淋到位。

主权项

1.一种刻蚀装置，其特征在于，包括：机架(10)；刻蚀槽，设置在所述机架(10)上并包括：贯穿所述刻蚀槽、并位于所述刻蚀槽内部的多个相互平行设置的滚轮(11)，所述滚轮(11)沿轴向间隔均匀地设有多个凹槽；多个喷淋装置，固定在所述机架(10)上，并且并列设置在所述刻蚀槽上方，所述刻蚀槽内具有多个硅片工位，每个所述硅片工位上对应一个所述喷淋装置，并且多个所述喷淋装置所成直线与所述滚轮(11)平行，每个所述喷淋装置具有喷水的第一状态及未喷水的第二状态；输水装置，为所述喷淋装置输送液体，并且所述输水装置单独控制一个所述喷淋装置处于所述第一状态或所述第二状态。