[实用新型]一种光刻胶涂布设备有效
| 申请号： | 201821440414.6 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN208673043U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光刻胶涂布设备，所述光刻胶涂布设备包括工作台、边缘研磨模块及喷头模块；通过具有研磨槽的边缘研磨模块，对待研磨半导体衬底的边缘区域进行研磨，以去除位于待研磨半导体衬底的边缘区域的残留光刻胶；在边缘研磨模块进行研磨的同时，通过位于待研磨半导体衬底上方及下方的喷头模块喷涂清洗液，及时有效地去除研磨废料。防止位于半导体衬底边缘区域的光刻胶成为后续工艺中缺陷的产生源，从而提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 光刻胶涂布 半导体 边缘研磨 衬底 边缘区域 喷头模块 光刻胶 去除 衬底边缘区域 本实用新型 产品良率 后续工艺 产生源 清洗液 研磨槽 有效地 工作台 喷涂 残留 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶涂布设备，其特征在于，包括：工作台，用于吸附及旋转待研磨半导体衬底，且所述待研磨半导体衬底的边缘区域凸出于所述工作台的边缘；边缘研磨模块，所述边缘研磨模块包括研磨槽，所述研磨槽用以对所述边缘区域进行研磨；喷头模块，包括位于所述待研磨半导体衬底下方的第一喷头组件及位于所述待研磨半导体衬底上方的第二喷头组件，通过所述第一喷头组件及第二喷头组件用以向所述待研磨半导体衬底喷涂清洗液。
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