[实用新型]薄膜沉积装置及系统有效
申请号: | 201821225981.X | 申请日: | 2018-08-01 |
公开(公告)号: | CN209178473U | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 刘金章;杨欣泽 | 申请(专利权)人: | 北京蜃景光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 黄彩荣 |
地址: | 100000 北京市海淀区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了薄膜沉积装置及系统,涉及薄膜沉积技术领域。本实用新型提供的薄膜沉积装置包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件。沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,升降机构使沉积室升降,沉积室能够与水平底座密封连接并围成密封的沉积空间。沉积室设置有第一进气口和第二进气口,混气组件与第一进气口密封连接,抽真空组件与第二进气口密封连接。加热组件包括均位于沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱。本实用新型还提供一种包括薄膜沉积装置的薄膜沉积系统。本实用新型提供的薄膜沉积装置及系统装配方便,具有良好的沉积速度和均匀性,能够保证金刚石薄膜产品的质量,也能够保证电热丝的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 薄膜沉积装置 本实用新型 沉积室 进气口 抽真空组件 进气口密封 沉积空间 沉积组件 加热组件 升降机构 水平底座 电热丝 混气 薄膜沉积技术 薄膜沉积系统 导电支撑柱 金刚石薄膜 密封连接 使用寿命 系统装配 基片台 均匀性 沉积 衬底 支架 密封 升降 保证 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜沉积装置,其特征在于,包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件;所述沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,所述升降机构安装于所述水平底座上,所述升降机构与所述沉积室连接,以使所述沉积室升降,所述沉积室能够与所述水平底座密封连接并围成密封的沉积空间,所述支架、所述基片台及所述衬底均位于所述沉积空间内,所述基片台通过所述支架安装于所述水平底座上,所述衬底设置于所述基片台上;所述沉积室设置有第一进气口和第二进气口,所述混气组件与所述第一进气口密封连接,所述抽真空组件与所述第二进气口密封连接;所述加热组件包括均位于所述沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱,二所述导电支撑柱均安装于所述水平底座上,所述电热丝的两端分别与二所述导电支撑柱电连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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