[实用新型]薄膜沉积装置及系统有效

专利信息
申请号: 201821225981.X 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN209178473U 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 刘金章;杨欣泽 申请(专利权)人: 北京蜃景光电科技有限公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 黄彩荣
地址: 100000 北京市海淀区中*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了薄膜沉积装置及系统,涉及薄膜沉积技术领域。本实用新型提供的薄膜沉积装置包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件。沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,升降机构使沉积室升降,沉积室能够与水平底座密封连接并围成密封的沉积空间。沉积室设置有第一进气口和第二进气口,混气组件与第一进气口密封连接,抽真空组件与第二进气口密封连接。加热组件包括均位于沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱。本实用新型还提供一种包括薄膜沉积装置的薄膜沉积系统。本实用新型提供的薄膜沉积装置及系统装配方便,具有良好的沉积速度和均匀性,能够保证金刚石薄膜产品的质量,也能够保证电热丝的使用寿命。
搜索关键词: 薄膜沉积装置 本实用新型 沉积室 进气口 抽真空组件 进气口密封 沉积空间 沉积组件 加热组件 升降机构 水平底座 电热丝 混气 薄膜沉积技术 薄膜沉积系统 导电支撑柱 金刚石薄膜 密封连接 使用寿命 系统装配 基片台 均匀性 沉积 衬底 支架 密封 升降 保证
【主权项】:
1.一种薄膜沉积装置,其特征在于,包括水平底座、沉积组件、加热组件、混气组件及抽真空组件;所述沉积组件包括沉积室、支架、基片台、衬底及升降机构,所述升降机构安装于所述水平底座上,所述升降机构与所述沉积室连接,以使所述沉积室升降,所述沉积室能够与所述水平底座密封连接并围成密封的沉积空间,所述支架、所述基片台及所述衬底均位于所述沉积空间内,所述基片台通过所述支架安装于所述水平底座上,所述衬底设置于所述基片台上;所述沉积室设置有第一进气口和第二进气口,所述混气组件与所述第一进气口密封连接,所述抽真空组件与所述第二进气口密封连接;所述加热组件包括均位于所述沉积空间内的电热丝和二导电支撑柱,二所述导电支撑柱均安装于所述水平底座上,所述电热丝的两端分别与二所述导电支撑柱电连接。
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