[实用新型]一种铝硅壳体有效
申请号: | 201820888515.3 | 申请日: | 2018-06-08 |
公开(公告)号: | CN208284469U | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 公伟;宋国理;胡哲东 | 申请(专利权)人: | 南京友乔电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/04 | 分类号: | H01L23/04 |
代理公司: | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人: | 毛洪梅 |
地址: | 210000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种铝硅壳体,涉及电子器件封装技术领域,包括内腔和外壳体,所述内腔的拐角处设有加强腔,所述加强腔向内凹进所述内腔中,所述加强腔包括第一弧形面,所述第一弧形面的两侧对称设置有第二弧形面,所述第一弧形面为凸出状,所述第二弧形面为凹进状,所述内腔和所述外壳体上分别设有第一缓冲腔和第二缓冲腔,所述第一缓冲腔设置在所述加强腔内,所述第二缓冲腔设置在所述外壳体的拐角处,所述第一缓冲腔和所述第二缓冲腔内均设有波浪形的缓冲弹片。本实用新型的铝硅壳体设置了多层加强结构,提高了整体的强度、抗压性能以及抗震缓冲性能。 | ||
搜索关键词: | 缓冲腔 弧形面 加强腔 外壳体 壳体 铝硅 内腔 本实用新型 拐角处 电子器件封装技术领域 抗震缓冲性能 对称设置 缓冲弹片 加强结构 抗压性能 向内凹进 凹进状 波浪形 内腔中 凸出状 多层 | ||
【主权项】:
1.一种铝硅壳体,其特征在于:包括内腔和外壳体,所述内腔的拐角处设有加强腔,所述加强腔向内凹进所述内腔中,所述加强腔包括第一弧形面,所述第一弧形面的两侧对称设置有第二弧形面,所述第一弧形面为凸出状,所述第二弧形面为凹进状,所述内腔和所述外壳体上分别设有第一缓冲腔和第二缓冲腔,所述第一缓冲腔设置在所述加强腔内,所述第二缓冲腔设置在所述外壳体的拐角处,所述第一缓冲腔和所述第二缓冲腔内均设有波浪形的缓冲弹片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京友乔电子科技有限公司,未经南京友乔电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201820888515.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。