[实用新型]一种新型石墨坩埚

摘要

由于现有的采用电子束加热的真空镀膜机在加热时，电子束的加热的温度高达1000℃～3000℃，而有机物的挥发温度基本在400℃～800℃之间，故用电子束对有机物直接进行加热可能会导致有机会分解。为了能够使用现有的普遍应用的采用电子束加热的真空蒸发镀膜机，本实用新型提出一种新型石墨坩埚，该新型石墨坩埚可以应用于现有的采用电子束加热的真空蒸发镀膜机中，取代常规的坩埚，这样，高能量的电子束打在本实用新型的新型石墨坩埚的表面，而石墨具有降温作用，这样会对坩埚内的有机物蒸发镀膜材料进行保护，使得有机物蒸发镀膜材料能够在低于电子束加热温度的情况下就开始蒸发保证在整个有机物进行真空蒸发镀膜的过程中有机物不会发生分解。

主权项

1.一种新型石墨坩埚，其包括：上盖（1）和下盖（2），其特征在于：上盖（1）上从上到下依次排布有蒸发台（11）、电子束打火台（12）、上盖边缘（13）以及圆形凸起咬合区（14），其中蒸发台（11）的上表面含有一蒸发孔（111），该蒸发孔（111）从上到下贯穿整个蒸发台（11）；下盖（2）含有边缘凸台（21），位于边缘凸台（21）内部的圆形凹陷咬合区（22），以及位于圆形凹陷咬合区（22）内部的中心置药平台（23）；上盖（1）上的圆形凸起咬合区（14）与下盖（2）上的圆形凹陷咬合区（22）可以匹配吻合，且电子束打火台（12）、上盖边缘（13）以及圆形凸起咬合区（14）的内部贯通，与下盖（2）的中心置药平台（23）形成容置腔室（15），该容置腔室（15）内用于存放有机物蒸发镀膜材料。