[实用新型]一种新型石墨坩埚

权利要求书

1.一种新型石墨坩埚，其包括：上盖（1）和下盖（2），其特征在于：上盖（1）上从上到下依次排布有蒸发台（11）、电子束打火台（12）、上盖边缘（13）以及圆形凸起咬合区（14），其中蒸发台（11）的上表面含有一蒸发孔（111），该蒸发孔（111）从上到下贯穿整个蒸发台（11）；下盖（2）含有边缘凸台（21），位于边缘凸台（21）内部的圆形凹陷咬合区（22），以及位于圆形凹陷咬合区（22）内部的中心置药平台（23）；上盖（1）上的圆形凸起咬合区（14）与下盖（2）上的圆形凹陷咬合区（22）可以匹配吻合，且电子束打火台（12）、上盖边缘（13）以及圆形凸起咬合区（14）的内部贯通，与下盖（2）的中心置药平台（23）形成容置腔室（15），该容置腔室（15）内用于存放有机物蒸发镀膜材料。

2.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：圆形凸起咬合区（14）的边缘具有一个或多个凸起咬合角（141）。

3.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：圆形凹陷咬合区（22）的边缘具有一个或多个凹陷咬合角（221）。

4.如权利要求2或3中所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的凸起咬合角（141）和凹陷咬合角（221）的形状包括半圆形、椭圆形、正方形、长方形、菱形，且能互相吻合。

5.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的凸起咬合角（141）与凸起咬合区（14）的高度相同，所述的凹陷咬合区（22）与凹陷咬合角（221）的高度相同，且高度均为0.5mm～2mm。

6.如权利要求5所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的凸起咬合区（14）和所述的凹陷咬合区（22）均为环形，凸起咬合区（14）的环形的外圆直径比内圆直径大1.5mm～2.5mm,凹陷咬合区（22）的环形的外圆直径比内圆直径大1.6mm～3mm，且凹陷咬合区（22）的环形的内圆直径比凸起咬合区（14）的环形的内圆直径小，凹陷咬合区（22）的环形的外圆直径比凸起咬合区（14）的环形的外圆直径小。

7.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的蒸发台（11）的上表面为半圆形，且直径为15mm～20mm，蒸发台（11）的高度为3mm～6mm。

8.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的蒸发孔（111）位于蒸发台（11）上表面的中心位置，且蒸发孔（111）的形状包括圆形、椭圆形、正方形、菱形。

9.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的电子束打火台（12）的上表面为圆形，且电子束打火台（12）的上表面圆形的直径与蒸发台（11）的上表面的半圆形的直径相同。

10.如权利要求1所述的新型石墨坩埚，其特征在于：所述的上盖边缘（13）的上表面的圆形的直径为20mm～23mm，其直径比电子束打火台（12）的上表面圆形的直径大4mm。