[发明专利]用于还原金属晶种层上的金属氧化物的方法及装置有效
| 申请号： | 201811642020.3 | 申请日： | 2014-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN110085501B | 公开（公告）日： | 2021-10-12 |
| 发明（设计）人： | 泰伊·A·斯柏林;乔治·安德鲁·安东内利;娜塔莉亚·V·杜比纳;詹姆斯·E·邓肯;乔纳森·D·里德;大卫·波特;达西·E·郎伯;杜尔迦拉克什米·辛格尔;史蒂芬·劳;马歇尔·斯托厄尔 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C18/16;C23C18/18;C25D5/34;C25D5/40;C25D5/42;C25D17/00;H01L21/02;H01L21/67;H01L21/687;H01L21/768 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;邱晓敏 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于还原金属晶种层上的金属氧化物的方法及装置，具体公开了用于还原金属氧化物表面以改性金属表面的方法及设备。通过使金属氧化物表面暴露于远程等离子体，衬底上的金属氧化物表面可以被还原成纯金属和回流的金属。远程等离子体设备在单独独立的设备中不仅可以处理金属氧化物表面，而且可以冷却、装载/卸载并移动衬底。远程等离子体设备包括处理室和控制器，所述控制器被配置为：在处理室中提供具有金属晶种层的衬底：形成还原性气体物质的远程等离子体，其中远程等离子体包括来自还原性气体物质的自由基、离子和/或紫外线(UV)辐射；并且使衬底的金属晶种层暴露于远程等离子体以使金属晶种层的氧化物还原成金属并且使金属回流。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 还原 金属 晶种层上 氧化物 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种远程等离子体设备，包括：处理室；用于在所述处理室中保持具有金属晶种层的衬底的衬底支撑，其中所述衬底的所述金属晶种层的一部分已经转变为金属氧化物；在所述衬底支撑上方的远程等离子体源；喷头，其包括多个通孔并位于所述远程等离子体源和所述衬底支撑之间；和控制器，其配置有用于执行以下操作的指令：在所述远程等离子体源中形成还原气体物质的远程等离子体；在还原所述金属氧化物的条件下，将所述处理室中的衬底的金属晶种层暴露于所述远程等离子体；和将所述衬底移离所述衬底支撑并朝向所述喷头移动以将所述衬底定位成更靠近所述喷头，其中所述喷头被主动冷却至低于30℃的温度，使得当靠近主动冷却的喷头时所述衬底的温度比远离所述主动冷却的喷头时更低。
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