[发明专利]一种制备单晶硅倒金字塔绒面的方法

摘要

本申请公开了一种制备单晶硅倒金字塔绒面的方法，通过对单晶硅片进行清洗，得到预处理单晶硅片，清洗时间为第一时间；将所述预处理单晶硅片置于刻蚀液中进行刻蚀，得到具有倒金字塔绒面的单晶硅片，其中，刻蚀时间为第二时间，所述刻蚀液为氢氟酸与双氧水的混合溶液，且所述混合溶液中配入金属离子。本申请中先对硅片进行清洗，在单晶硅片表面形成一层液膜，再将清洗后的单晶硅片放入刻蚀液中，且刻蚀液中配有金属离子，由于液膜的存在，使刻蚀液与硅片接触部分的金属离子均匀分布在硅片表面，刻蚀第二时间后便得到具有倒金字塔绒面的单晶硅片，不需要先沉积后刻蚀再腐蚀等复杂步骤，非常简单。

主权项

1.一种制备单晶硅倒金字塔绒面的方法，其特征在于，包括：对单晶硅片进行清洗，得到预处理单晶硅片，清洗时间为第一时间；将所述预处理单晶硅片置于刻蚀液中进行刻蚀，得到具有倒金字塔绒面的单晶硅片，其中，刻蚀时间为第二时间，所述刻蚀液为氢氟酸与双氧水的混合溶液，且所述刻蚀液中配入金属离子。