[发明专利]一种硅研磨片清洗工艺在审
| 申请号： | 201811517791.X | 申请日： | 2018-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN109647782A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 常耀辉;窦连水;王云彪;吕菲;武永超;赵权 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/12;H01L21/02 |
| 代理公司： | 天津中环专利商标代理有限公司 12105 | 代理人： | 王凤英 |
| 地址： | 300220*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅磨片表面清洗工艺。硅研磨片经氢氟酸溶液漂洗后，进入七个槽依次超声清洗，第一、六、七槽为去离子水溢流槽，第二、三、四、五槽为药液槽；每槽均采用功率为1500W，频率为40KHz的超声振板；药液由碱性清洗剂、去离子水、氢氧化钾溶液混合均匀搅拌，加热升温到50‑55℃；采用该工艺清洗后去除厚度2~3μm，晶片表面均匀光亮，无沾污，无灰尘，无颗粒等，可直接用于后续腐蚀加工，亦能包装后长期存放，且提升了硅磨片的机械强度。该工艺清洗效果稳定，清洗液使用周期长，有效降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺清洗 清洗工艺 去离子水 研磨片 氢氧化钾溶液 碱性清洗剂 氢氟酸溶液 长期存放 超声清洗 超声振板 腐蚀加工 加热升温 晶片表面 均匀光亮 磨片表面 使用周期 效果稳定 清洗液 药液槽 溢流槽 漂洗 磨片 沾污 去除 生产成本 | ||
【主权项】：
1.一种硅研磨片的清洗工艺，其特征在于，硅研磨片经氢氟酸溶液漂洗60秒以上，再依次进入七个槽分别进行逐槽超声清洗，其中第一槽、第六槽、第七槽为去离子水溢流槽，第二槽、第三槽、第四槽、第五槽为药液槽；每槽均采用功率为1500W，频率为40KHz的超声振板。
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