[发明专利]掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法

摘要

本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S)的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进行掩模(1、2)相对于基板(S)的校准时，将第一掩模标记(11)与第二掩模标记(21)重合，用相机(8)通过基板(S)的校准开口(Sm)进行摄影。

主权项

1.一种掩模对，该掩模对由搭载于将基板的两面曝光的两面曝光装置的第一掩模与第二掩模构成，其特征在于，所述第一掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第一掩模标记、以及为了相对于所述第二掩模进行校准而设置的第一辅助掩模标记，所述第二掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第二掩模标记、以及为了相对于所述第一掩模进行校准而设置的第二辅助掩模标记，所述第一掩模标记与所述第二掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离为所述基板的宽度以下，所述第一辅助掩模标记与所述第二辅助掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离大于所述基板的宽度。