[发明专利]掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法

说明书

本发明提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S)的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进行掩模(1、2)相对于基板(S)的校准时，将第一掩模标记(11)与第二掩模标记(21)重合，用相机(8)通过基板(S)的校准开口(Sm)进行摄影。

技术领域

本申请发明涉及用于柔性印刷基板等的制造的卷对卷(roll to roll)方式那样的两面曝光装置。

背景技术

将规定图案的光向对象物照射而进行曝光的曝光装置作为光刻的核心性的技术被用于各种用途。在曝光装置中有各种各样的类型，作为其中之一，已知有对带状的长条的基板的两面进行曝光的两面曝光装置。

例如，在将柔性印刷基板那样的柔软的基板曝光的装置的情况下，采用以卷对卷的方式一边将基板输送一边进行曝光的构成。在基板的输送线路的两侧(通常为上下)配置有一对曝光单元。在输送线路的两侧设有掩模，曝光单元从两侧通过各掩模照射规定的图案的光，进行曝光。

从卷拉出的基板的输送是间歇性的，向在输送后停止的基板中的位于一对曝光单元之间的部位的两面照射规定的图案的光，将两面同时曝光。

由于这样的两面曝光装置也是曝光装置的一种，因此校准(对位)精度成为问题。在卷对卷方式的装置那样的对带状的长条的基板进行曝光的装置的情况下，光刻完成后在长度方向的适当的位置处切断，得到最终的产品。由于能够适当地选定切断位置，所以曝光装置中的长度方向的校准以往不那么成为问题。另一方面，一对掩模的相互的位置关系需要以较高的精度保持。即，这是因为，若一对掩模的位置关系的精度较差，则在最终的产品中基板的一侧的图案与另一侧的图案偏离，容易引起产品缺陷。因此，像专利文献1或专利文献2那样对一对掩模相互进行校准，使所形成的图案没有偏离。

以往的状况是上述那样的，但是最近仅将一对掩模相互校准是不够的，要求也以足够高的精度进行相对于基板的对位。作为其一个背景，可列举伴随产品的高性能化，具有多层配线那样的复杂的构造的情况变多。

若示出一个例子，在柔性印刷基板中引入多层配线那样的复杂的构造的情况下，在带状的基板上已经形成有图案、并在其上进一步涂覆抗蚀剂而进行曝光的情况较多。已有的图案沿着带状的基板的长度方向隔开间隔形成有多个，形成有各个图案的部分最终成为各个产品。在此情况下，在进一步的曝光中，需要对已经形成的图案以所需的位置精度进行曝光，且需要进行相对于基板的校准。

另外，根据产品，有在已经形成有图案的部分之上层压另一个柔性的方形的基板，为了形成图案对该另一个基板(以下，称为上层基板)进行曝光的情况。在此情况下，也由于上层基板沿着带状的基板的长度方向隔着间隔层压有多个，所以需要在相对于各个上层基板进行了校准的状态下进行曝光。

在这样也要求进行相对于基板的校准的情况下，需要在将一对掩模相互校准的基础上，一边保持该状态一边将该一对掩模相对于基板进行校准。因此，在专利文献2中，采用通过作为设于基板的校准标记的开口(以下，称为校准用开口)用相机对两侧的掩模的校准标记进行摄影的构成。

专利文献1：日本特开2000－155430号公报

专利文献2：日本特开2006－278648号公报

发明内容

在对上述那样的带状的长条的基板的两面进行曝光的两面曝光装置中，若将要形成的图案不同，则使用不同的一对掩模。因此，产生了根据产品更换掩模的需要。在该情况下，在从卷对卷输送方式这样的卷将基板拉出并进行曝光的类型的装置中，有在卷的中途产品的品种改变而产生更换一对掩模的需要的情况。