[发明专利]蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法有效
| 申请号： | 201811389335.1 | 申请日： | 2018-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN109811345B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 朴种熙;金基泰;金真锡;金范洙;金相泰;沈庆辅;南基龙;尹暎晋;林大成 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司;东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/30 | 分类号： | C23F1/30;C09K13/06;C23F1/16;H10K71/00;H10K50/805;H10K59/12 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;薛义丹 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法，所述蚀刻剂包括：基于蚀刻剂的总重量，大约1wt％至大约15wt％的硫化过氧化物、大约5wt％至大约10wt％的硝酸、大约20wt％至大约40wt％的有机酸、大约0.05wt％至大约5wt％的硝酸铁、大约0.1wt％至大约5wt％的离子螯合剂以及大约0.1wt％至大约5wt％的缓蚀剂，其中，余量是去离子水。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 通过 利用 制造 显示装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻剂，所述蚀刻剂包括：基于所述蚀刻剂的总重量，1wt％至15wt％的硫化过氧化物；5wt％至10wt％的硝酸；20wt％至40wt％的有机酸；0.05wt％至5wt％的硝酸铁；0.1wt％至5wt％的离子螯合剂；以及0.1wt％至5wt％的缓蚀剂，其中，余量是去离子水。
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