[发明专利]集成电路在审

专利信息
申请号: 201811352279.4 申请日: 2018-11-14
公开(公告)号: CN109786372A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 张丰愿;杨国男;王中兴;鲁立忠;陈圣丰;黄博祥;比斯瓦思·希兰梅;陈胜雄;可汗·亚法特伯·阿朗 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/528
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 集成电路包括单元层、第一金属层、以及第一导电通孔。单元层包括第一单元和第二单元,这些单元中的每一者被配置为执行电路功能。第一金属层在单元层上方,并且包括第一导电特征部,该第一导电特征部从第一单元延伸至第二单元中并且被配置为接收电源电压。第一导电通孔将单元层与第一金属层互连。
搜索关键词: 单元层 第一金属层 导电特征 导电通孔 集成电路 单元延伸 电路功能 接收电源 互连 配置
【主权项】:
1.一种集成电路,其特征在于,包括:一单元层,包括第一单元及一第二单元,该第一单元及该第二单元中的每一者被配置为执行一电路功能;一第一金属层,在该单元层上方,并且包括一第一导电特征部,该第一导电特征部从该第一单元延伸至该第二单元中并且被配置为接收一电源电压;以及一第一导电通孔,将该单元层与该第一金属层互连。
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