[发明专利]功率器件及其制造方法在审
| 申请号： | 201811335560.7 | 申请日： | 2018-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN109326653A | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 杨东林;刘侠;陈文高 | 申请（专利权）人： | 上海昱率科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京中知法苑知识产权代理事务所(普通合伙) 11226 | 代理人： | 李明 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种功率器件，包括：衬底；第一外延层，设置于所述衬底上；第二外延层，设置于所述第一外延层上；多个第一体区，设置于所述第二外延层中；多个第二体区，设置于相应第一体区的下方；其中，所述多个第二体区从所述第二外延层向下延伸到所述第一外延层中，所述多个第二体区的底部位于所述第一外延层中。 | ||
| 搜索关键词： | 外延层 体区 功率器件 衬底 向下延伸 制造 | ||
【主权项】：
1.一种功率器件，包括：衬底；第一外延层，设置于所述衬底上；第二外延层，设置于所述第一外延层上；多个第一体区，设置于所述第二外延层中；多个第二体区，设置于相应第一体区的下方；其中，所述多个第二体区从所述第二外延层向下延伸到所述第一外延层中，所述多个第二体区的底部位于所述第一外延层中。
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