[发明专利]一种紫外发光二极管及其制作方法有效
申请号: | 201811277372.3 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109449267B | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 何苗;丛海云;黄仕华;熊德平 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L33/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 510060 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种紫外发光二极管,包括蓝宝石衬底与GaN缓冲层,所述紫外发光二极管包括GaN纳米线层与GaN纳米线融合层;所述GaN纳米线层设置在所述紫外发光二极管的蓝宝石衬底表面;所述GaN纳米线层包括GaN纳米线,所述GaN纳米线的两端分别连接所述GaN纳米线融合层和所述蓝宝石衬底,实现所述GaN纳米线融合层与所述蓝宝石衬底间的电连接;所述GaN纳米线融合层设置在所述GaN纳米线层与所述紫外发光二极管的GaN缓冲层之间。本发明通过将传统的GaN层替换成GaN纳米线层,减少了GaN材料与衬底的接触面积,同时也就减少了接触面间的缺陷和位错,提升了内量子效率,进而提高了元件效率。本发明同时还提供了一种具有上述有益效果的紫外发光二极管的制作方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 紫外 发光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种紫外发光二极管,包括蓝宝石衬底与GaN缓冲层,其特征在于,所述紫外发光二极管包括GaN纳米线层与GaN纳米线融合层;所述GaN纳米线层设置在所述紫外发光二极管的蓝宝石衬底表面;所述GaN纳米线层包括GaN纳米线,所述GaN纳米线的两端分别连接所述GaN纳米线融合层和所述蓝宝石衬底,实现所述GaN纳米线融合层与所述蓝宝石衬底间的电连接;所述GaN纳米线融合层设置在所述GaN纳米线层与所述紫外发光二极管的GaN缓冲层之间。
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