[发明专利]光掩模及其制作方法和制作显示器件的方法有效

专利信息
申请号: 201811260306.5 申请日: 2018-10-26
公开(公告)号: CN109407461B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 谢昌翰;舒适 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F1/38 分类号: G03F1/38;G09F9/30
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了光掩模及其制作方法和制作显示器件的方法。该光掩模包括:基板;图案化遮光层,所述图案化遮光层设置在所述基板的表面上;平坦化层,所述平坦化层与所述图案化遮光层位于所述基板的同一表面上,且覆盖所述图案化遮光层;以及准直结构,所述准直结构设置在所述平坦化层远离所述基板的表面上。该光掩模对光具有自准直功能,可适用于对光的准直度要求高的应用环境,进而可使得柔性显示器中的聚合物墙在制作时无需准直光源,使得聚合物墙的生产更加简便,且生产设备的集成化高,可显著降低柔性显示器中聚合物墙的生产成本。
搜索关键词: 光掩模 及其 制作方法 制作 显示 器件 方法
【主权项】:
1.一种光掩模,其特征在于,包括:基板;图案化遮光层,所述图案化遮光层设置在所述基板的表面上;平坦化层,所述平坦化层与所述图案化遮光层位于所述基板的同一表面上,且覆盖所述图案化遮光层;以及准直结构,所述准直结构设置在所述平坦化层远离所述基板的表面上。
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