[发明专利]半导体装置、设计其版图的方法以及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811223295.3 申请日: 2018-10-19
公开(公告)号: CN110034107A 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 刘钟奎;金珉修;金用杰;李大成 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;G06F17/50
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 李娜
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种半导体装置、设计其版图的方法以及其制造方法。半导体装置包括:第一硬宏;第二硬宏,在第一方向上与所述第一硬宏间隔第一距离;头单元,设置在所述第一硬宏和所述第二硬宏之间的标准单元区域中,所述头单元被配置为对提供给所述第一硬宏和所述第二硬宏中的一个的电源电压执行电源门控;多个第一末端单元,设置在所述标准单元区域中并与所述第一硬宏相邻;以及多个第二末端单元,设置在所述标准单元区域中并与所述第二硬宏相邻,所述头单元不与所述多个第一末端单元和所述多个第二末端单元交叠。
搜索关键词: 末端单元 半导体装置 标准单元 头单元 电源电压 电源门控 交叠 制造 配置
【主权项】:
1.一种半导体装置,包括:第一硬宏;第二硬宏,在第一方向上与所述第一硬宏间隔第一距离;头单元,设置在所述第一硬宏和所述第二硬宏之间的标准单元区域中,所述头单元被配置为对提供给所述第一硬宏和所述第二硬宏中的一个的电源电压执行电源门控;多个第一末端单元,设置在所述标准单元区域中并与所述第一硬宏相邻;以及多个第二末端单元,设置在所述标准单元区域中并与所述第二硬宏相邻,其中,所述头单元不与所述多个第一末端单元和所述多个第二末端单元交叠。
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