[发明专利]半导体设备废水循环处理系统在审
| 申请号： | 201811220244.5 | 申请日： | 2018-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN111072175A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04;C02F103/34 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;阚梓瑄 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提出一种半导体设备废水循环处理系统，涉及半导体存储器生产技术领域，所述系统包括：反应槽，与半导体设备的废水处理装置的出液口连通，所述反应槽包括第一出液口；逆流清洗塔，包括清液出口和进液口，所述进液口与所述反应槽的第一出液口连通；循环水槽，与所述逆流清洗塔的清液出口连通，所述循环水槽的出液口与所述废水处理装置连通。本发明提供的技术方案使用逆流清洗塔对反应槽排出的液体进行过滤，改善了原有废水处理系统的循环方式，相比较现有技术，可降低耗水量以及滤材损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体设备 废水 循环 处理 系统 | ||
【主权项】：
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