[发明专利]半导体设备废水循环处理系统

说明书

本发明提出一种半导体设备废水循环处理系统，涉及半导体存储器生产技术领域，所述系统包括：反应槽，与半导体设备的废水处理装置的出液口连通，所述反应槽包括第一出液口；逆流清洗塔，包括清液出口和进液口，所述进液口与所述反应槽的第一出液口连通；循环水槽，与所述逆流清洗塔的清液出口连通，所述循环水槽的出液口与所述废水处理装置连通。本发明提供的技术方案使用逆流清洗塔对反应槽排出的液体进行过滤，改善了原有废水处理系统的循环方式，相比较现有技术，可降低耗水量以及滤材损耗。

技术领域

本发明涉及半导体存储器生产技术领域，尤其涉及一种半导体设备废水循环处理系统。

背景技术

外延机台在生产过程中需要使用酸性、易燃性气体，故外延机台经废水处理装置所排出的废水为pH2的酸性水。这些废水需要经过废水循环处理系统处理后，重新进入外延机台的废水处理装置。如图1所示，废水循环处理系统中，由废水处理装置102排除的废水首先进入反应槽104。反应槽104中添加有氢氧化钠来调整废水的pH值，使其成为不具有腐蚀性的中性水。添加氢氧化钠NaOH后，由于酸碱中和作用，水中会产生白色粉末。为使反应槽排出的水循环使用，白色粉末使用串联的前置过滤器106和精细过滤器108滤除。精细过滤器108排出的水进入循环水槽110，与自回收水槽112中进入循环水槽110的水混合后进入废水处理装置102，完成一个处理循环过程。其中，回收水槽流入的水为自来水或回收水。

避免阻塞循环水造成外延机台当机或故障，操作人员需定期清洗过滤器或更换滤材，清洗过滤器时，容易造成液体飞溅，伤害工作人员，且增大工作人员的工作量。

清洗过滤器时，过滤器不易冲洗干净、耗水量较大，此外，清洗过滤器排出的污水还容易造成对周围环境的二次污染。

需要说明的是，在上述背景技术部分发明的信息仅用于加强对本发明的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

发明内容

本发明的目的在于提供一种半导体设备废水循环处理系统半导体设备废水循环处理系统，至少在一定程度上克服原有废水循环处理系统中耗水量大，滤材损耗大的问题。

本发明的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本发明的实践而习得。

根据本发明实施例提供一种半导体设备废水循环处理系统，所述系统包括：反应槽，与废水处理装置的出液口连通，所述反应槽包括第一出液口；逆流清洗塔，包括进液口和清液出口，所述进液口与所述反应槽的第一出液口连通；循环水槽，与所述逆流清洗塔的清液出口连通，所述循环水槽的出液口与所述废水处理装置连通。

上述方案中，逆流清洗塔为连续式逆流清洗塔。

上述方案中，所述逆流清洗塔包括内部设置有金刚砂滤层的砂滤塔。

上述方案中，所述反应槽和所述逆流清洗塔之间设置有循环泵浦；所述反应槽内设置有液位计，所述循环泵浦根据所述液位计测量的液位数据启动，将所述反应槽中的液体泵入所述逆流清洗塔。

上述方案中，所述系统还包括设置在所述逆流清洗塔和所述循环水槽之间的过滤水槽以及第一泵浦，所述第一泵浦将所述过滤水槽中的液体泵入所述循环水槽。

上述方案中，所述逆流清洗塔的进液口设置于所述逆流清洗塔的顶部，所述清液出口设置于所述逆流清洗塔的顶部，所述逆流清洗塔的顶部还设置有向废水氟系处理系统排出污水的污液出口；所述逆流清洗塔还包括将所述逆流清洗塔底部的混合液抽取到所述逆流清洗塔的顶部的抽取机构。

上述方案中，所述系统还包括设置于所述循环水槽和所述废水处理装置的进液口之间的加压泵浦，所述加压泵浦将所述循环水槽中的液体泵入所述逆流清洗塔。

上述方案中，所述反应槽还包括排出反应槽液体的第二出液口。