[发明专利]极紫外光表膜设备在审
申请号: | 201811094209.3 | 申请日: | 2018-09-19 |
公开(公告)号: | CN109557762A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 刘丙寅;黄信华;吴常明;蔡嘉雄 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/62 | 分类号: | G03F1/62 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳;宋洋 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本公开是关于一种形成表膜设备的方法,包括藉由在一基底装置层上方沉积定义一层或多层表膜层以形成装置基板,其中释放层形成在上述表膜层上方。粘合层形成在透明承载基板上方。上述粘着层接合到释放层上,而定义出包括装置基板及承载基板的复合基板。从复合结构去除基底装置层,且将表膜框架附接到表膜层的最外层。将表膜区与复合结构的剩余区隔开,且通过透明承载基板对释放层进行烧蚀,从而定义包括附接到表膜框架的表膜的一表膜设备。随后将表膜设备从复合基板的剩余部分分离。 | ||
搜索关键词: | 表膜 承载基板 表膜层 释放层 表膜框架 复合基板 复合结构 基底装置 极紫外光 形成装置 装置基板 接合 透明 膜设备 剩余区 粘合层 粘着层 最外层 沉积 多层 隔开 基板 去除 烧蚀 | ||
【主权项】:
1.一种极紫外光表膜设备,包括:一复合结构,具有小于约500nm的厚度,该复合结构包括:一第一表膜层,具有一第一表面及一第二表面;一第二表膜层,具有一第三表面及一第四表面,其中该第三表面与该第一表膜层的该第二表面形成界面;以及一第三表膜层,具有一第五表面及一第六表面,其中该第五表面与该第二表膜层的该第四表面形成界面;以及一表膜框架,连接到该第一表膜层的该第一表面的多个外部边缘,且配置为用以将该复合结构安装到一极紫外光倍缩掩模上,其中该第一表面及该第六表面为面朝相反的方向。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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