[发明专利]极紫外光表膜设备在审
| 申请号： | 201811094209.3 | 申请日： | 2018-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN109557762A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 刘丙寅;黄信华;吴常明;蔡嘉雄 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/62 | 分类号： | G03F1/62 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳;宋洋 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表膜 承载基板 表膜层 释放层 表膜框架 复合基板 复合结构 基底装置 极紫外光 形成装置 装置基板 接合 透明 膜设备 剩余区 粘合层 粘着层 最外层 沉积 多层 隔开 基板 去除 烧蚀 | ||
【权利要求书】：
1.一种极紫外光表膜设备，包括：
一复合结构，具有小于约500nm的厚度，该复合结构包括：
一第一表膜层，具有一第一表面及一第二表面；
一第二表膜层，具有一第三表面及一第四表面，其中该第三表面与该第一表膜层的该第二表面形成界面；以及
一第三表膜层，具有一第五表面及一第六表面，其中该第五表面与该第二表膜层的该第四表面形成界面；以及
一表膜框架，连接到该第一表膜层的该第一表面的多个外部边缘，且配置为用以将该复合结构安装到一极紫外光倍缩掩模上，其中该第一表面及该第六表面为面朝相反的方向。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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