[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201811082870.2 申请日: 2018-09-17
公开(公告)号: CN109116647B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 薛进进;史大为;李峰;姚磊;王文涛;徐海峰;杨璐;候林;王金锋;李梅;方业周 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,其中阵列基板包括多个像素单元,像素单元划分为透光区域和反射区域,反射区域的阵列基板包括:衬底基板以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管和存储电容;存储电容包括层叠设置在衬底基板一侧的金属层、层间介质层以及反射层,金属层靠近衬底基板设置;设置在存储电容背离衬底基板一侧的公共电极层,反射层与公共电极层连接,金属层与薄膜晶体管的有源层连接。由于反射区域中反射层的设置可以反射环境光,从而降低背光源的功率消耗;同时,金属层和反射层之间形成的存储电容可以存储液晶像素电压,使由漏电流所造成的电压变化量减少,从而可以有效增加液晶像素电位保持能力,提升显示效果。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括多个像素单元,所述像素单元划分为透光区域和反射区域,所述反射区域的阵列基板包括:衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管和存储电容,所述存储电容包括层叠设置在所述衬底基板一侧的金属层、层间介质层以及反射层,所述金属层靠近所述衬底基板设置;设置在所述存储电容背离所述衬底基板一侧的公共电极层,所述反射层与所述公共电极层连接,所述金属层与所述薄膜晶体管的有源层连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811082870.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top