[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效
申请号: | 201811082870.2 | 申请日: | 2018-09-17 |
公开(公告)号: | CN109116647B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 薛进进;史大为;李峰;姚磊;王文涛;徐海峰;杨璐;候林;王金锋;李梅;方业周 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 莎日娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,其中阵列基板包括多个像素单元,像素单元划分为透光区域和反射区域,反射区域的阵列基板包括:衬底基板以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管和存储电容;存储电容包括层叠设置在衬底基板一侧的金属层、层间介质层以及反射层,金属层靠近衬底基板设置;设置在存储电容背离衬底基板一侧的公共电极层,反射层与公共电极层连接,金属层与薄膜晶体管的有源层连接。由于反射区域中反射层的设置可以反射环境光,从而降低背光源的功率消耗;同时,金属层和反射层之间形成的存储电容可以存储液晶像素电压,使由漏电流所造成的电压变化量减少,从而可以有效增加液晶像素电位保持能力,提升显示效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括多个像素单元,所述像素单元划分为透光区域和反射区域,所述反射区域的阵列基板包括:衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管和存储电容,所述存储电容包括层叠设置在所述衬底基板一侧的金属层、层间介质层以及反射层,所述金属层靠近所述衬底基板设置;设置在所述存储电容背离所述衬底基板一侧的公共电极层,所述反射层与所述公共电极层连接,所述金属层与所述薄膜晶体管的有源层连接。
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