[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201811082870.2 申请日: 2018-09-17
公开(公告)号: CN109116647B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 薛进进;史大为;李峰;姚磊;王文涛;徐海峰;杨璐;候林;王金锋;李梅;方业周 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

本申请提供了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,其中阵列基板包括多个像素单元,像素单元划分为透光区域和反射区域,反射区域的阵列基板包括:衬底基板以及设置在衬底基板上的薄膜晶体管和存储电容;存储电容包括层叠设置在衬底基板一侧的金属层、层间介质层以及反射层,金属层靠近衬底基板设置;设置在存储电容背离衬底基板一侧的公共电极层,反射层与公共电极层连接,金属层与薄膜晶体管的有源层连接。由于反射区域中反射层的设置可以反射环境光,从而降低背光源的功率消耗;同时,金属层和反射层之间形成的存储电容可以存储液晶像素电压,使由漏电流所造成的电压变化量减少,从而可以有效增加液晶像素电位保持能力,提升显示效果。

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

反射式或半透式显示一直是低功耗液晶显示的一种重要技术。一般而言,背光源的耗电量约占总功率消耗的70%~80%,反射式或半透式显示器件可以充分利用环境光源,因此可以节约背光源的功率消耗。另外,对于液晶显示产品而言漏电流的存在导致液晶像素电极的电压无法保持,影响显示效果。

发明内容

本发明提供及一种阵列基板及其制备方法、显示装置,以降低能耗并改善显示效果。

为了解决上述问题,本发明公开了一种阵列基板,所述阵列基板包括多个像素单元,所述像素单元划分为透光区域和反射区域,所述反射区域的阵列基板包括:

衬底基板以及设置在所述衬底基板上的薄膜晶体管和存储电容,所述存储电容包括层叠设置在所述衬底基板一侧的金属层、层间介质层以及反射层,所述金属层靠近所述衬底基板设置;

设置在所述存储电容背离所述衬底基板一侧的公共电极层,所述反射层与所述公共电极层连接,所述金属层与所述薄膜晶体管的有源层连接。

可选地,所述薄膜晶体管包括:层叠设置在所述衬底基板一侧的所述有源层、栅极绝缘层、栅极层、所述层间介质层以及源漏金属层,所述有源层靠近所述衬底基板设置;

其中,所述栅极层与所述金属层通过同一掩膜形成,所述金属层通过设置在所述栅极绝缘层上的过孔与所述有源层连接。

可选地,所述阵列基板还包括:设置在所述存储电容与所述公共电极层之间的平坦层,所述公共电极层通过设置在所述平坦层上的过孔与所述反射层连接。

可选地,所述阵列基板还包括:设置在所述公共电极层背离所述衬底基板一侧的钝化层和像素电极层,所述像素电极层通过设置在所述钝化层上的过孔与所述薄膜晶体管连接。

可选地,所述反射层的材质为银。

为了解决上述问题,本发明还公开了一种显示装置,所述显示装置包括任一实施例所述的阵列基板。

为了解决上述问题,本发明还公开了一种阵列基板的制备方法,所述制备方法包括:

提供衬底基板;

在所述衬底基板上形成薄膜晶体管和存储电容,所述存储电容包括依次形成在所述衬底基板上的金属层、层间介质层以及反射层,所述金属层与所述薄膜晶体管的有源层连接;

在所述存储电容背离所述衬底基板的一侧形成公共电极层,所述反射层与所述公共电极层连接。

可选地,在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的步骤,包括:

在所述衬底基板的一侧依次形成有源层、栅极绝缘层、栅极层、所述层间介质层以及源漏金属层;

其中,所述栅极层与所述金属层通过同一掩膜形成;所述金属层通过设置在所述栅极绝缘层上的过孔与所述有源层连接。

可选地,在所述存储电容背离所述衬底基板的一侧形成公共电极层的步骤之前,所述制备方法还包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811082870.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top