[发明专利]解决版图图形偏离栅格线的修正方法有效
申请号: | 201810878190.5 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN109001958B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 徐一建;李天慧;龙海凤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 江西省上饶市淮*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法,对于偏离栅格线的目标图形,通过在栅格阵列中定义并连接各个栅格偏离点所对应的栅格修正点获得修正后的图形。本发明可有效解决人工逐条审查修改效率低下的问题。通过使用本发明的修正方法,不但可以修正偏离栅格线的图形,也可以修正版图中的畸形点,使版图可以在光罩上准确刻写。 | ||
搜索关键词: | 解决 版图 图形 偏离 栅格 修正 方法 | ||
【主权项】:
1.一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,包括如下步骤:1)提供一目标图形,所述目标图形形成于一栅格阵列中,所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点所构成的矩阵;2)定义一包含所述目标图形的最小矩形,所述最小矩形的边线平行于所述X轴或所述Y轴;3)通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点,分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线,将所述垂线与所述目标图形的交点定义为栅格偏离点;4)将距离所述栅格偏离点最近的栅格点定义为栅格修正点,得到所述目标图形上的所有所述栅格偏离点所对应的所述栅格修正点;5)将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接,以得到修正后图形。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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