[发明专利]板材、制备板材的方法、壳体、电子设备在审
申请号: | 201810847674.3 | 申请日: | 2018-07-27 |
公开(公告)号: | CN108947590A | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 杨光明 | 申请(专利权)人: | OPPO(重庆)智能科技有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C23C14/22;H05K5/02;H04M1/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵天月 |
地址: | 401120 重庆*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明公开了板材、制备板材的方法、壳体、电子设备。具体的,本发明提出了一种板材,包括:陶瓷基板;以及颜色调节层,所述颜色调节层设置在所述陶瓷基板上,所述颜色调节层不同位置处的厚度不完全相同。由此,该板材可以呈现丰富的色彩,提升了利用该板材制作的陶瓷壳体的外观和表现力。 | ||
搜索关键词: | 颜色调节层 电子设备 陶瓷基板 壳体 制备 陶瓷壳体 位置处 制作 | ||
【主权项】:
1.一种板材,其特征在于,包括:陶瓷基板;以及颜色调节层,所述颜色调节层设置在所述陶瓷基板上,所述颜色调节层不同位置处的厚度不完全相同。
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- 2019-04-26 - 2019-08-16 - C04B41/89
- 本发明涉及一种类坯体型泥浆化妆土及陶瓷砖的制备工艺。类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组份组成:泥沙料浆45%~80%;釉面砖回收料浆10%~50%;硅灰石2%~5%;羧甲基纤维素钠0~0.5%;三聚磷酸钠0~0.5%;木质素0~0.5%;水玻璃0~0.5%;焦磷酸钠0~1%;六聚偏磷酸钠0~0.5%。制备工艺包括:⑴坯体压制:批量均化的矿物原料;⑵坯体干燥:⑶干燥温度:100~280℃,干燥时间90~120分钟;⑷施类坯体型泥浆化妆土;⑸图案装饰;⑹淋透明釉:比重控制为1.75~1.80,恩式粘度控制为30~40S;⑺烧成:温度1170~1190℃,时间80~90分钟;⑻抛光磨边。
- 一种生态级负离子陶瓷釉层结构、瓷砖及瓷砖制备方法-201910434136.6
- 祁明;钟保民;徐瑜 - 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
- 2019-05-23 - 2019-08-16 - C04B41/89
- 本发明公开了一种生态级负离子陶瓷釉层结构、瓷砖及瓷砖制备方法,其中陶瓷釉层结构,包括底釉层和面釉层,按照质量百分比,所述底釉层的原料包含电气石6~9%和α‑Al2O3 1~2%,余量为基础底釉层料;按照质量百分比,所述面釉层的原料包含电气石3~6%、六环石粉10~15%和α‑Al2O3 1~2%,余量为基础面釉层料。通过电气石的电场诱生空气的水分产生负离子,然后六环石的红外线把诱生的大粒径负离子处理成跟大自然一样的小粒径负离子,诱生出生态级负离子,使人体容易吸收。
- 一种防止多层智能彩绘釉料陶瓷缩釉的配方和制备方法-201910460681.2
- 张亮;汪大谷 - 湖南醴陵红官窑瓷业有限公司
- 2019-05-30 - 2019-08-13 - C04B41/89
- 本发明属于陶瓷制备技术领域,具体是涉及一种防止多层智能彩绘釉料陶瓷缩釉的配方和制备方法,包括依次设置在陶瓷坯体上的底釉、彩绘喷墨层和透明釉,所述底釉包括如下重量份的组分:高岭土10‑15份、石英30‑40份、钾长石45‑55份、方解石10‑15份、氧化锌0.5‑2份、滑石1‑3份、硅酸锆2‑8份,色剂0.1‑15份、羟甲基纤维素0.05‑0.1份、桃胶0.1‑0.2份;所述透明釉包括以下重量份的组分:高岭土8‑12份、石英20‑30份、钾长石40‑50份、方解石10‑15份、氧化锌1‑5份、滑石1‑3份、桃胶0.1‑0.2份、甘油0.1‑0.5份,本发明可以防止产生缩釉现象。
- 一种石墨基体上的抗超高温氧化涂层及其制备方法-201810094130.4
- 徐敬军;韩雨彤;李美栓;钱余海;左君 - 中国科学院金属研究所
- 2018-01-31 - 2019-08-06 - C04B41/89
- 本发明属于抗超高温氧化涂层领域,具体涉及一种石墨基体上超高温氧化涂层及其制备方法。该涂层的结构为:内层为采用包埋法制备的厚度为200~300μmSiC层,包埋粉料的质量百分比为Si 50~65%,C 15~20%,Al2O315~25%;处理温度为1600~2000℃,时间2~4小时;外层为采用料浆涂刷法后高温热处理原位形成厚度为100~150μm HfB2‑SiC‑SiB6‑WB2层,按体积百分含量计,其化学成分为HfB2:70%,SiC:10~20%,SiB6:10~20%,WB2:1~3%。本发明制备的涂层,具有1600℃、100h的抗氧化能力。
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