[发明专利]一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置

摘要

本发明提供一种感光套孔结构及其制备方法、指纹识别装置，属于指纹识别技术领域，其可解决现有的多层套孔的对位精度较低，其错位导致多次刻蚀得到的套孔结构无法形成正常的光通路的问题。本发明的感光套孔的制备方法中，限定部件以基础遮光层为掩膜版形成，叠加遮光层依托限定部件为边界形成，因此可以确保后续形成的叠加遮光层均与基础遮光层对齐，不会产生错位，使得第二开口与第一开口重合得到的感光套孔可以形成正常的光通路。该方法制备的感光套孔用于指纹识别装置中后可以进行正常的指纹识别。

主权项

1.一种感光套孔的制备方法，其特征在于，包括在基底的第一面上形成具有第一开口的基础遮光层的步骤，以及在基础遮光层背离所述基底的一侧形成至少一层具有第二开口的叠加遮光层的步骤；所述第二开口至基底上的正投影与第一开口至基底上的正投影重合并形成感光套孔；其中，形成所述具有第二开口的叠加遮光层的步骤包括：在基础遮光层背离所述基底的一侧形成透光的限定层；以基础遮光层为掩膜版将所述限定层图案化得到多个限定部件；以所述限定部件为界限形成叠加遮光层，所述叠加遮光层具有被限定部件填充的第二开口。