[发明专利]一种基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810672316.3 申请日: 2018-06-26
公开(公告)号: CN108878689B 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 胡月;廖金龙;叶志杰;彭锐 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明实施例提供一种基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可解决在现有像素界定层的开口区域形成的发光功能层厚度不均匀的问题。该基板的制备方法包括:在衬底基板上形成像素界定层薄膜;其中,像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒;辅助颗粒用于在分解时释放出气体,弹性材料用于在辅助颗粒释放出气体时使像素界定层薄膜膨胀;亲性材料、光刻胶以及弹性材料的分子量均大于辅助颗粒的分子量;对像素界定层薄膜进行加热,使辅助颗粒向远离衬底基板的方向移动;对像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层,并使辅助颗粒分解释放出气体。用于像素界定层的制备。
搜索关键词: 一种 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种基板的制备方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成像素界定层薄膜;其中,所述像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在所述光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒;所述辅助颗粒用于在分解时释放出气体,所述弹性材料用于在所述辅助颗粒释放出气体时使所述像素界定层薄膜膨胀;所述亲性材料、所述光刻胶以及所述弹性材料的分子量均大于所述辅助颗粒的分子量;对所述像素界定层薄膜进行加热,使所述辅助颗粒向远离所述衬底基板的方向移动;对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层,并使所述辅助颗粒分解释放出气体。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810672316.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top