[发明专利]一种基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成像素界定层薄膜；其中，所述像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在所述光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒；所述辅助颗粒用于在分解时释放出气体，所述弹性材料用于在所述辅助颗粒释放出气体时使所述像素界定层薄膜膨胀；所述亲性材料、所述光刻胶以及所述弹性材料的分子量均大于所述辅助颗粒的分子量；所述亲性材料为亲水性材料或亲油性材料；

对所述像素界定层薄膜进行加热，使所述辅助颗粒向远离所述衬底基板的方向移动；

对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层，并使所述辅助颗粒分解释放出气体。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层，并使所述辅助颗粒分解释放出气体，具体包括：

对所述像素界定层薄膜进行曝光、显影形成像素界定层；

对所述像素界定层中的所述辅助颗粒进行分解处理，以使所述辅助颗粒分解释放出气体；

或者，

对所述像素界定层薄膜进行曝光、显影形成像素界定层，并使所述辅助颗粒分解释放出气体。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，对所述像素界定层中的所述辅助颗粒进行分解处理，以使所述辅助颗粒分解释放出气体，具体包括：

对所述像素界定层中的所述辅助颗粒进行加热处理或光照处理使所述辅助颗粒分解释放出气体。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述像素界定层包括开口区域和用于界定所述开口区域的像素界定区域；

对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层之后，所述制备方法还包括：在所述像素界定层的开口区域形成发光功能层。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在所述像素界定层的开口区域形成发光功能层，包括：

利用喷墨打印法在所述像素界定层的开口区域打印包含发光功能层材料的墨水。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述辅助颗粒为偶氮化合物颗粒。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述弹性材料包括热塑性聚酯弹性体、热塑性聚氨酯弹性体或热塑性三元乙丙动态硫化弹性体中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述亲性材料包括聚酰亚胺、双酚A聚碳酸酯、主链中含有烷基的聚合物以及主链中含有环状刚性结构的聚合物中的至少一种。

9.一种基板，其特征在于，所述基板采用如权利要求1-8任一项所述的制备方法制备形成。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的基板。