[发明专利]一种基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810672316.3 申请日: 2018-06-26
公开(公告)号: CN108878689B 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 胡月;廖金龙;叶志杰;彭锐 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明实施例提供一种基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可解决在现有像素界定层的开口区域形成的发光功能层厚度不均匀的问题。该基板的制备方法包括:在衬底基板上形成像素界定层薄膜;其中,像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒;辅助颗粒用于在分解时释放出气体,弹性材料用于在辅助颗粒释放出气体时使像素界定层薄膜膨胀;亲性材料、光刻胶以及弹性材料的分子量均大于辅助颗粒的分子量;对像素界定层薄膜进行加热,使辅助颗粒向远离衬底基板的方向移动;对像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层,并使辅助颗粒分解释放出气体。用于像素界定层的制备。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(Organic Electro-luminescent Display,简称OLED)因具有自发光、发光效率高、工作电压低、轻薄、可柔性化及制程工艺简单等诸多优点,在显示、照明等领域得到广泛的应用。

目前OLED器件中发光层的成膜方式有两种,一种是蒸镀制程,这种方式适合于小尺寸OLED器件的生产;另一种是溶液制程,溶液制程包括旋涂、喷墨打印或丝网印刷等方式。利用溶液制程成膜的方式由于具有成本低、产能高、适用于大尺寸OLED器件的生产等优点,而被广泛用于OLED器件的生产过程中。

现有的像素界定层(Pixel Definition Layer,简称PDL)由挡墙构成,如图1所示,沿靠近衬底基板10到远离衬底基板10的方向,挡墙的宽度逐渐减小,即像素界定层20垂直于衬底基板10的截面为正梯形状。由于形成像素界定层20的材料具有亲附性(像素界定层20的材料包括光刻胶和亲性材料),当在像素界定层20的开口区域中通过溶液制程如喷墨打印(Ink-Jet Printing,简称IJP)形成发光功能层(Electroluminescent,简称EL)30,且墨水中包括亲性材料时,墨水在干燥过程中会沿像素界定层20的侧壁攀爬,因此使得在像素界定层20的开口区域中形成的发光功能层30中间薄、边缘厚,即发光功能层30的厚度不均匀,从而影响OLED器件的出光效果,导致OLED器件亮度均一性较差,进而影响了OLED器件的寿命。

发明内容

本发明的实施例提供一种基板及其制备方法、显示装置,可解决在现有像素界定层的开口区域形成的发光功能层厚度不均匀的问题。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

第一方面,提供一种基板的制备方法,包括:在衬底基板上形成像素界定层薄膜;其中,所述像素界定层薄膜的材料包括光刻胶和掺杂在所述光刻胶中的亲性材料、弹性材料及辅助颗粒;所述辅助颗粒用于在分解时释放出气体,所述弹性材料用于在所述辅助颗粒释放出气体时使所述像素界定层薄膜膨胀;所述亲性材料、所述光刻胶以及所述弹性材料的分子量均大于所述辅助颗粒的分子量;对所述像素界定层薄膜进行加热,使所述辅助颗粒向远离所述衬底基板的方向移动;对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层,并使所述辅助颗粒分解释放出气体。

优选的,对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层,并使所述辅助颗粒分解释放出气体,具体包括:对所述像素界定层薄膜进行曝光、显影形成像素界定层;对所述像素界定层中的所述辅助颗粒进行分解处理,以使所述辅助颗粒分解释放出气体;或者,对所述像素界定层薄膜进行曝光、显影形成像素界定层,并使所述辅助颗粒分解释放出气体。

进一步优选的,对所述像素界定层中的所述辅助颗粒进行分解处理,以使所述辅助颗粒分解释放出气体,具体包括:对所述像素界定层中的所述辅助颗粒进行加热处理或光照处理使所述辅助颗粒分解释放出气体。

优选的,所述像素界定层包括开口区域和用于界定所述开口区域的像素界定区域;对所述像素界定层薄膜进行处理形成像素界定层之后,所述制备方法还包括:在所述像素界定层的开口区域形成发光功能层。

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