[发明专利]基片液处理装置、处理液供给方法和存储介质

摘要

本发明涉及基片液处理装置、处理液供给方法和存储介质。当使用低表面张力的处理液时，防止来自喷嘴的处理液供给停止后的液体下落，定量地控制开闭阀关闭期间的处理液流量，并且减小处理液的消耗量。控制部(4)在从将处理液以第一流量从喷嘴(40)向基片(W)供给的状态起停止供给来自喷嘴的处理液时，使开闭阀(716)从打开状态转变为关闭状态，并且进行将比第一流量小的第二流量作为流量目标值给予流量控制机构(715)的停止控制，最晚至开闭阀开始从打开状态向关闭状态转变之前。

主权项

1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：保持基片的基片保持部；对由所述基片保持部保持的所述基片供给处理液的喷嘴；一端与喷嘴连接，另一端与处理液供给源连接的供给线路；具有设置于所述供给线路的流量计和流量控制阀的流量控制机构；设置于所述供给线路的开闭阀；和控制所述流量控制机构和所述开闭阀的动作的控制部，所述流量控制机构能够调节流量控制阀，以使得所述流量计的检测值与所述控制部给予的流量目标值一致，所述控制部使所述开闭阀成为打开状态，从所述喷嘴向所述基片供给所述处理液，并且将第一流量作为所述流量目标值给予所述流量控制机构，所述控制部，在要使所述开闭阀从打开状态转变为关闭状态，从将所述处理液从所述喷嘴向所述基片供给的状态起停止供给所述处理液时，进行将比所述第一流量小的第二流量作为所述流量目标值给予所述流量控制机构的停止控制，直到所述开闭阀开始从打开状态向关闭状态转变。