[发明专利]蚀刻液、补给液以及铜布线的形成方法有效
| 申请号： | 201810480094.5 | 申请日： | 2018-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN108934126B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 浜口仁美;高垣爱;菱川翔太;金美花 | 申请（专利权）人： | MEC股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K3/06 | 分类号： | H05K3/06;C23F1/18 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 张福根;冯志云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的蚀刻液为铜的蚀刻液；并且所述蚀刻液为含有酸、氧化性金属离子、具有五元环的杂芳香族化合物(A)、以及选自由具有五元环至六元环的杂芳香族化合物(B1)及烷醇胺(B2)所组成的群组中的一种以上的化合物的水溶液；所述(A)为不具有羟烷基，且具有一个以上的氮原子作为构成环的杂原子的杂芳香族化合物；所述(B1)为具有一个以上的氮原子作为构成环的杂原子，且经含有碳数1以上5以下的羟烷基的取代基所取代的杂芳香族化合物；所述(B2)为具有通式(1)：R |
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| 搜索关键词： | 蚀刻 补给 以及 布线 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，为铜的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液为含有酸、氧化性金属离子、具有五元环的杂芳香族化合物(A)、以及选自由具有五元环至六元环的杂芳香族化合物(B1)及烷醇胺(B2)所组成的群组中的一种以上的化合物的水溶液；所述具有五元环的杂芳香族化合物(A)为不具有羟烷基，且具有一个以上的氮原子作为构成环的杂原子的杂芳香族化合物；所述具有五元环至六元环的杂芳香族化合物(B1)为具有一个以上的氮原子作为构成环的杂原子，且经含有碳数1以上5以下的羟烷基的取代基所取代的杂芳香族化合物；所述烷醇胺(B2)为具有通式R1‑N(R2)‑R3的化合物，并且通式中，R1及R2独立地表示烷基或碳数1以上8以下的羟烷基，R3表示氢原子、烷基或碳数1以上8以下的羟烷基，且R1至R3中至少一个为所述羟烷基。
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