[发明专利]CMP设备的终点确定方法、终点确定系统和CMP系统在审
| 申请号： | 201810377019.6 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108555771A | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 赵德文;田芳馨;金军;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学;天津华海清科机电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/013 | 分类号： | B24B37/013;B24B37/04;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张润 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种CMP终点的确定方法、确定系统和CMP系统，该确定方法包括：获取驱动所述抛光盘的电机负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据；进而根据以上数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据；根据归一化摩擦力矩随时间变化的数据得到所述归一化摩擦力矩随时间变化的曲线；根据曲线确定抛光终点。本发明具有如下优点：不需要复杂的滤波计算，计算量小，能够更加实时准确确定抛光终点，进而提升抛光后的成品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 随时间变化 摩擦力矩 归一化 抛光终点 终点确定 抛光盘 摆动 电机负载率 滤波计算 曲线确定 抛光 计算量 抛光头 摆臂 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种CMP设备的终点确定方法，其特征在于，所述CMP设备包括抛光盘、修整装置和设置在所述抛光盘上的抛光头，所述修整装置包括修整头、支点和摆臂，所述修整头通过所述摆臂与所述支点相连，所述CMP终点的终点检测方法包括以下步骤：获取驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据；根据所述驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据，所述归一化的摩擦力矩为去除所述抛光头摆动影响后所述抛光头与所述抛光盘之间的摩擦力矩；根据所述归一化摩擦力矩随时间变化的数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的曲线；根据所述归一化摩擦力矩随时间变化的曲线确定抛光终点。
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