[发明专利]CMP设备的终点确定方法、终点确定系统和CMP系统

权利要求书

1.一种CMP设备的终点确定方法，其特征在于，所述CMP设备包括抛光盘、修整装置和设置在所述抛光盘上的抛光头，所述修整装置包括修整头、支点和摆臂，所述修整头通过所述摆臂与所述支点相连，所述CMP终点的终点检测方法包括以下步骤：

获取驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据；

根据所述驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据，所述归一化的摩擦力矩为去除所述抛光头摆动影响后所述抛光头与所述抛光盘之间的摩擦力矩；

根据所述归一化摩擦力矩随时间变化的数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的曲线；

根据所述归一化摩擦力矩随时间变化的曲线确定抛光终点。

2.根据权利要求1所述的CMP设备的终点确定方法，其特征在于，根据驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据的步骤包括：

提供归一化摩擦力矩随时间变化的函数；

根据所述根据驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据、所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据和所述归一化摩擦力矩随时间变化的函数得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据。

3.根据权利要求2所述的CMP设备的终点确定方法，其特征在于，所述归一化摩擦力矩随时间变化的函数为：

其中，表示归一化摩擦力矩，k₁、k₂、α和β均为设定的常数，P_p为电机的负载率，L为所述摆臂的长度，θ₀为所述支点与所述抛光盘中心的连线相对于设定坐标轴的角度，θ为所述摆臂相对于所述设定坐标轴的角度，x_r为所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离，x₀为所述抛光头往复摆动范围中心点对应的x_r值。

4.一种CMP设备的终点确定系统，其特征在于，所述CMP设备包括抛光盘、修整装置和设置在所述抛光盘上的抛光头，所述修整装置包括修整头、支点和摆臂，所述修整头通过所述摆臂与所述支点相连，所述CMP设备的终点确定系统包括：

数据获取模块，用于获取驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据；

归一化摩擦力矩确定模块，用于根据所述驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据和所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据，所述归一化的摩擦力矩为去除所述抛光头摆动影响后所述抛光头与所述抛光盘之间的摩擦力矩；

曲线生成模块，用于根据所述归一化摩擦力矩随时间变化的数据得到所述归一化摩擦力矩随时间变化的曲线；

抛光终点确定模块，用于根据所述归一化摩擦力矩随时间变化的曲线确定抛光终点。

5.根据权利要求4所述的CMP设备的终点确定系统，其特征在于，所述归一化摩擦力矩确定模块具体用于提供归一化摩擦力矩随时间变化的函数，并根据所述根据驱动所述抛光盘运动的电机的负载率随时间变化的数据、所述摆臂的摆动角度随时间变化的数据、所述抛光头相对于所述抛光盘中心的摆动距离随时间变化的数据和所述归一化摩擦力矩随时间变化的函数得到归一化摩擦力矩随时间变化的数据。