[发明专利]一种微蚀安定剂的生产设备及生产方法在审
| 申请号： | 201810346436.4 | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN108774526A | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 彭小英 | 申请（专利权）人： | 吉安宏达秋科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 343900 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微蚀安定剂的生产设备，包括位于二楼的混合罐，所述混合罐的底部设置有排液管，所述排液管向下延伸连接至注液阀，所述注液阀连接至药水罐，所述药水罐位于一楼地面上；一种微蚀安定剂的生产方法，使用如前所述的微蚀安定剂的生产设备。采用上述技术方案，本发明的微蚀安定剂的生产设备和生产方法，无需使用液泵，因此能够有效节约生产成本的维修成本。 | ||
| 搜索关键词： | 安定剂 微蚀 生产设备 混合罐 排液管 药水罐 注液阀 节约生产成本 维修成本 向下延伸 楼地面 使用液 生产 | ||
【主权项】：
1.一种微蚀安定剂的生产设备，其特征在于：包括位于二楼的混合罐，所述混合罐的底部设置有排液管，所述排液管向下延伸连接至注液阀，所述注液阀连接至药水罐，所述药水罐位于一楼地面上；所述注液阀包括竖直的进液管、位于所述进液管上的进液阀门、三个连接至所述进液管上的水平的支管、连接于所述支管的筒状的阀体、位于所述阀体内的圆柱状的阀芯；在每个所述支管内设置有一内滑管，所述内滑管的靠近所述进液管的一端设置有向经向内侧弯折的檐部，所述内滑管的远离所述进液管的一端设置有球面型封头，在所述球面型封头上设置有出液孔；在所述内滑管内部设置有一喇叭形管，所述喇叭形管的靠近所述进液管的一端连接于所述内滑管的内侧壁；三个水平设置的连杆一端分别固定于所述进液管，另一端分别插入到所述内滑管内部；在每个所述连杆的端部固定有一钢球，所述钢球能够压紧所述喇叭形管从而对喇叭形管进行密封；每个所述连杆外侧套有一压缩弹簧，所述压缩弹簧一端顶住所述进液管内侧壁，另一端顶住所述檐部；在所述连杆上设置有一挡块，当所述挡块挡在所述檐部的远离所述压缩弹簧的一侧时，所述球面型封头伸出到所述支管外；所述阀芯的下端连接有一竖直的立杆，所述立杆的下端设置有一浮体，在所述阀芯内部设置有若干竖直的贯通孔；所述阀体的下部设置有用于挡住所述阀芯的挡环。
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- 2009-12-02 - 2012-11-28 - C09K13/00
- 本发明提供了具有掺杂功能的蚀刻膏剂。所述蚀刻膏剂蚀刻硅晶片上的薄膜并包含：a)n-型或p-型可掺杂的掺杂剂；b)粘结剂；和c)溶剂。本发明的具有掺杂功能的蚀刻膏剂而掺杂于硅晶片之上同时蚀刻通过焙烧在所述硅晶片的一个表面上形成的薄膜，而且由于该蚀刻膏剂不含氟化合物或磷化合物，因此在掺杂过程或蚀刻过程之后甚至不需要额外的冲洗过程。
- GaAs半导体材料刻蚀液的配方-201210079731.0
- 李炎勇;王开友 - 中国科学院半导体研究所
- 2012-03-23 - 2012-08-08 - C09K13/00
- 本发明一种GaAs半导体材料刻蚀液的配方，包括：柠檬酸、过氧化氢和去离子水；其是先将柠檬酸和去离子水按预定比例混合，再加入过氧化氢搅拌均匀。其中该刻蚀液是先将1g的柠檬酸晶体兑入1ml的去离子水中，搅拌均匀，再加入浓度为30％的过氧化氢，柠檬酸晶体与去离子水之和与过氧化氢的体积比为66∶1。使用的本发明柠檬酸配方中，对GaAs材料的刻蚀速率控制在2.0nm/s-2.8nm/s。
- 专利分类
