[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 201810344260.9 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN110061058A | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 张正东;杨小飞;郭明周;苏磊;周刚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王晓燕 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种阵列基板及其制备方法、显示装置。该阵列基板包括：衬底基板；第一导电图案，设置在所述衬底基板上；绝缘层，设置在所述第一导电图案的远离所述衬底基板的一侧，并且所述绝缘层中具有过孔；第二导电图案，设置在所述绝缘层的远离所述衬底基板的一侧；连接电极，设置在所述绝缘层的所述过孔中，所述连接电极电连接所述第二导电图案和所述第一导电图案；保护图案，设置在所述连接电极的远离所述衬底基板的一侧；其中，所述保护图案在所述衬底基板上的正投影与所述过孔在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。该保护图案可以防止位于过孔下方的第一导电图案发生腐蚀等不良现象。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底基板 导电图案 绝缘层 保护图案 连接电极 阵列基板 显示装置 正投影 制备 不良现象 电连接 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，包括：衬底基板；第一导电图案，设置在所述衬底基板上；绝缘层，设置在所述第一导电图案的远离所述衬底基板的一侧，并且所述绝缘层中具有过孔；第二导电图案，设置在所述绝缘层的远离所述衬底基板的一侧；连接电极，设置在所述绝缘层的所述过孔中，所述连接电极电连接所述第二导电图案和所述第一导电图案；保护图案，设置在所述连接电极的远离所述衬底基板的一侧；其中，所述保护图案在所述衬底基板上的正投影与所述过孔在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
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