[发明专利]一种可提高发光效率的LED外延结构及其生长方法在审

专利信息
申请号: 201810332131.8 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN108538978A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 尧刚;卓祥景;程伟;孙传平;万志 申请(专利权)人: 厦门乾照光电股份有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 361100 福建省厦门市火炬*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种可提高发光效率的LED外延结构及其生长方法,在生长InGaN/GaN多量子阱有源层过程中,在InGaN量子阱层和与该InGaN量子阱层背离衬底一侧相邻的GaN量子垒层之间生长有插入层,通过插入层覆盖保护该InGaN量子阱层,能够提高后续生长GaN量子垒层时的生长温度,同时可以显著抑制InGaN量子阱层中In组分的析出,提高InGaN量子阱层和垒层界面的平整度;并且,插入层可以作为InGaN量子阱层和GaN量子垒层之间的一层应力补偿层,抵消InGaN量子阱层和GaN量子垒层之间产生的压应力,进而降低缺陷的形成,提高有源区的辐射复合效率,进而提高LED的发光效率。
搜索关键词: 量子阱层 量子垒层 生长 发光效率 插入层 辐射复合效率 应力补偿层 析出 平整度 压应力 衬底 垒层 源层 源区 抵消 背离 覆盖
【主权项】:
1.一种可提高发光效率的LED外延结构的生长方法,其特征在于,包括:提供一衬底;在所述衬底上依次生长缓冲层和N型电子注入层;在所述N型电子注入层上生长InGaN/GaN多量子阱有源层,所述InGaN/GaN多量子阱有源层包括周期生长的InGaN量子阱层和GaN量子垒层,且位于所述InGaN量子阱层和与其背离所述衬底一侧的相邻的GaN量子垒层之间生长有插入层;在所述InGaN/GaN多量子阱有源层上依次生长电子阻挡层、P型空穴注入层和欧姆接触层。
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