[发明专利]用于砷化镓半导体的结染色溶液及其结染色方法有效

专利信息
申请号: 201810304929.1 申请日: 2018-04-08
公开(公告)号: CN108485668B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 庄翌圣;蔡齐航;巫永仁 申请(专利权)人: 苏试宜特(上海)检测技术有限公司
主分类号: C09K13/06 分类号: C09K13/06;H01L21/306;G01N1/30
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 曾耀先
地址: 201100 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种用于砷化镓半导体的结染色溶液及其结染色方法,所述结染色溶液包括由重量比值为1.5~4的硫酸(H2SO4)和过氧化氢(H2O2)组成,并在40~60℃的温度范围下混合制成的第一溶液,以及由重量比值为0.5~7的柠檬酸(C6H8O7)和过氧化氢(H2O2)组成,并在5~20℃的温度范围下混合制成的第二溶液。借此,利用第一溶液、第二溶液进行二次选择性蚀刻,以克服现有结染色溶液一次性蚀刻所导致的反应过激问题,并完成砷化镓半导体的结染色操作,且通过本发明结染色方法能够使砷化镓半导体的掺杂区域显现,并于光学显微镜与扫描式电子显微镜下皆可观测出明显轮廓,利于进行半导体的失效分析。
搜索关键词: 用于 砷化镓 半导体 染色 溶液 及其 方法
【主权项】:
1.一种用于砷化镓半导体的结染色溶液,其特征在于,包括:第一溶液,包括重量比值为1.5~4的硫酸(H2SO4)和过氧化氢(H2O2),所述第一溶液用以进行第一次选择性蚀刻;第二溶液,包括重量比值为0.5~7的柠檬酸(C6H8O7)和过氧化氢(H2O2),所述第二溶液用以进行第二次选择性蚀刻。
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