[发明专利]阵列基板及阵列基板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201810294128.1 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN108538856B 公开(公告)日: 2020-12-25
发明(设计)人: 曹武 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阵列基板,所述阵列基板包括器件层以及设置于所述器件层上的覆盖层,所述覆盖层包括至少一通孔,所述通孔至少两不同侧壁相对于参考水平面形成的倾斜角不同;所述覆盖层上形成有像素电极,所述覆盖层的所述电极通过所述通孔连接所述器件层中的源极或漏极。本发明还公开了一种阵列基板的制作方法,通过上述阵列基板结构可避免像素电极残留导致电极短接引起的产品质量问题。
搜索关键词: 阵列 制作方法
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:器件层以及设置于所述器件层上的覆盖层,所述覆盖层包括至少一通孔,所述通孔至少两不同侧壁相对于参考水平面形成的倾斜角不同;所述覆盖层上形成有像素电极,所述覆盖层的所述电极通过所述通孔连接所述器件层中的源极或漏极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810294128.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top