[发明专利]图像传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810169553.8 申请日: 2018-03-01
公开(公告)号: CN108364968B 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 吕相南;北村阳介;黄晓橹 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/71
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 欧阳帆
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本公开涉及图形传感器及其制造方法。本公开涉及一种图像传感器,其特征在于,所述图像传感器包括:衬底,包括形成在所述衬底中的多个辐射感测单元;第一电介质层,形成在所述衬底上,其中所述第一电介质层为单层或者多层结构;多个滤色器,形成在所述第一电介质层上并且对应地设置在所述多个辐射感测单元上方;以及第一分隔部,形成在所述多个滤色器之间以用于防止辐射串扰,其中,所述第一分隔部从基准面起向上延伸,所述基准面位于所述第一电介质层的上表面和下表面之间。
搜索关键词: 图像传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种图像传感器,其特征在于,所述图像传感器包括:衬底,包括形成在所述衬底中的多个辐射感测单元;第一电介质层,形成在所述衬底上,其中所述第一电介质层为单层或者多层结构;多个滤色器,形成在所述第一电介质层上并且对应地设置在所述多个辐射感测单元上方;以及第一分隔部,形成在所述多个滤色器之间以用于防止辐射串扰,其中,所述第一分隔部从基准面起向上延伸,所述基准面位于所述第一电介质层的上表面和下表面之间。
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